유도 결합형 플라즈마 장치를 이용한 극자외선 마스크 구조의 식각 특성 연구

김두영 ,  이학주 ,  정호영 외 2명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2007 .04

리소그라피의 최신기술동향

안진호

한국반도체장비학회지

2002 .01

A new gas jet type Z-pinch extreme ultraviolet light source for next generation lithography

송인호 ,  최창호 ,  고광철 외 1명

대한전기학회 학술대회 논문집

2006 .07

극자외선 반사를 위한 마스크 및 광학계의 개발 동향

이승윤 ,  안진호 ,  손영수

전기의세계

2002 .02

Selective Dry Etching of Alternating PSM Structure for Extreme Ultraviolet Lithography (EUVL) Mask in Inductively Coupled Plasmas (ICP)

H. Y. Jung ,  Y. R. Pa ,  k 외 4명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2008 .06

극자외선(EUV) 리소그라피를 위한 광원 및 스테이지 기술

진윤식 ,  박도영 ,  전정우 외 1명

전기의세계

2002 .02

해외동정

한국방사성동위원소협회

동위원소 뉴스

2007 .01

나노임프린트 리소그라피

정건영

고분자 과학과 기술

2009 .02

극자외선 리소그래피용 마스크의 결함 검출

이문석

전자공학회논문지-SD

2006 .08

Focused Ion Beam을 이용한 EUVL Mask Defect Isolation 및 Repair

김석구 ,  백운규 ,  박재근

반도체및디스플레이장비학회지

2004 .01

Modeling and Simulation of Line Edge Roughness for EUV Resists

Sang-Kon Kim

JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE

2014 .02

β -keto acid를 포함하는 포토레지스트의 합성과 리소그라피 평가

김진백 ,  김경선

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2000 .10

‘차세대 통신 기술’

허서원

전자공학회지

2010 .04

차세대 통신 기술

이재진

전자공학회논문지-TC

2010 .07

차세대 인터넷 기술

안상현

한국정보과학회 워크샵

1997 .07

차세대 전달망 기술

주성순 ,  이병선

[ETRI] 전자통신동향분석

2004 .12

차세대 구동기 기술을 찾아서

오세훈

로봇과 인간

2017 .01

SAL 603 Resist를 사용한 변형 가우시안 전자빔 리소그라피 공정

최상수 ,  전영진

대한전자공학회 워크샵

1991 .01

Infinite selective dry etching of ITO binary mask structures for extreme ultraviolet lithography (EUVL) using inductively coupled plasmas (ICP)

Y. R. Pa ,  k ,  C. R. Chang 외 8명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2009 .05