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학술저널
저자정보
이진영 (한국기계연구원) 서석준 (한국기계연구원) 김대웅 (한국기계연구원) 허민 (한국기계연구원) 이재옥 (한국기계연구원) 강우석 (한국기계연구원)
저널정보
한국반도체디스플레이기술학회 반도체디스플레이기술학회지 반도체디스플레이기술학회지 제18권 제1호
발행연도
2019.1
수록면
5 - 9 (5page)

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Optical emission spectroscopy is used to identify chemical species and monitor the changes of process results during the plasma process. However, plasma process monitoring or fault detection by using emission signal variation monitoring is vulnerable to background signal fluctuations. IR heaters are used in semiconductor manufacturing chambers where high temperature uniformity and fast response are required. During the process, the IR lamp output fluctuates to maintain a stable process temperature. This IR signal fluctuation reacts as a background signal fluctuation to the spectrometer. In this research, we evaluate the effect of infrared background signal fluctuation on plasma process monitoring and improve the plasma process monitoring accuracy by using simple infrared background signal subtraction method. The effect of infrared background signal fluctuation on plasma process monitoring was evaluated on $SiO_2$ PECVD process. Comparing the $SiO_2$ film thickness and the measured emission line intensity from the by-product molecules, the effect of infrared background signal on plasma process monitoring and the necessity of background signal subtraction method were confirmed.
#Plasma Process Monitoring #Optical Emission Spectroscopy #Infrared Background Signal #$SiO_2$ PECVD

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Stillahn, J. M. / 2008 / Plasma diagnostics for unraveling process chemistry / Annu. Rev. Anal. Chem 1:261~291 google schola Pan, C. R. / 2018 / Scheduling cluster tools in semiconductor manufacturing : Recent advances and challenges / IEEE Trans. Autom. Sci. Eng 15:1~16 google schola Qin, S. J. / 2006 / Semiconductor manufacturing process control and monitoring : A fab-wide framework / J. Process Contr 16:179~191 google schola Khan, A. A. / 2007 / An approach for factory-wide control utilizing virtual metrology / IEEE Trans. semicond. Manuf 20:364~375 google schola Lee, Y. G. / 2007 / Plasma electron temperature and metastable density measurement by using argon 4p level emission analysis (OES) / Spring Conference of KSDET :104~108 google schola

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