Generation of Si-O-C Bond without Si-$CH_3$ Bond in Hybrid Type SiOC Film

Oh, Teresa

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자료유형: 학술저널

저자정보: Oh, Teresa (School of Electronic and Information Engineering, Cheongju University)

저널정보: 한국반도체디스플레이기술학회 반도체및디스플레이장비학회지 반도체및디스플레이장비학회지 제7권 제3호

발행연도: 2008.1

수록면: 1 - 4 (4page)

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The chemical shift of SiOC film was observed according to the flow rate ratio. SiOC film had the broad main band of $880\sim1190cm^{-1}$ and the sharp Si-$CH_3$ bond at $1252cm^{-1}$, and the peak position of the main bond in the infrared spectra moved to high frequency according to the increasing of an BTMSM flow rate. So the increment of the alkyl group induced the C-H bond condensation in the film, and shows the blueshift in the infrared spectra. In the case of P5000 system of Applied Materials Corporation, the strong bond of Si-CH3 bond in precursor does not enough to dissociated and ionized, because low plasma energy due to the capactive coupled CVD. Therefore, there was the sharp peak of Si-$CH_3$ bond at $1252cm^{-1}$.

#Si-O-C bond #redshift #Si-$CH_3$ peak #C-H bond elongation

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