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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2007.11
- 수록면
- 20 - 25 (6page)
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SiOC 박막과 같은 유무기 하이브리드 실리카 물질에서의 열처리효과에 의한 결합구조의 변화와 유전상수에 관하여 연구하였다. 유무기 하이브리드 실리카 물질은 BTMSM과 산소의 혼합가스를 이용한 CVD방법에 의하여 증착되었다. 유무기 하이브리드 실리카 물질은 증착조건에 따라 3가지 유형으로 분류되었으며, 유전상수는 MIS 구조에 의하여 조사되었다. XPS 분석에 의하여 C 1s 스펙트라는 O2/BTMSM=1.5의 유량비를 갖는 박막에서 282.9 eV의 organometallic carbon 반응을 보여주는 피크를 나타내었다. organometallic carbon반응의 결과는 안정성 있는 크로스 링크 결합구조를 만들어내며, 하이브리드 특성을 갖는 이 박막에서 열처리 후 유전상수는 가장 낮았다.
목차
요약
Abstract
Ⅰ. INSTRUCTION
Ⅱ. EXPERIMENT
Ⅲ. RESULT & DISCUSSION
Ⅳ. CONCLUSION
REFERENCE
저자소개
참고문헌 (11)
참고문헌 신청
1. [학술지(정기간행물)] - / 2003 / Bonding Structure of the Cross-link in Organosilicate Films Using O2/BTMSM Precursors 42 : 1517 ~ 1520
2. [학술지(정기간행물)] - / 2003 / Structure of low dielectric constant to extreme low dielectric constant SIOCH films: Fourier transform infrared spectroscopy characterization 94 : 6697 ~ 6707
3. [학술지(정기간행물)] - / 2002 / Visualizing the evolution of surface bond straining during radical-surface interactions in plasma deposition processes 30 : 112 ~ 113
4. [학술지(정기간행물)] - / 2006 / 탄소밀도의 변화가 SiOC 박막의 결합구조에 미치는 영향 43 : 322 ~ 327
5. [학술지(정기간행물)] - / 2002 / Energy and angular distributions of ions and neutrals extracted from a slot in contact with a high-density plasma 30 : 126 ~ 127
2. [학술지(정기간행물)] - / 2003 / Structure of low dielectric constant to extreme low dielectric constant SIOCH films: Fourier transform infrared spectroscopy characterization 94 : 6697 ~ 6707
3. [학술지(정기간행물)] - / 2002 / Visualizing the evolution of surface bond straining during radical-surface interactions in plasma deposition processes 30 : 112 ~ 113
4. [학술지(정기간행물)] - / 2006 / 탄소밀도의 변화가 SiOC 박막의 결합구조에 미치는 영향 43 : 322 ~ 327
5. [학술지(정기간행물)] - / 2002 / Energy and angular distributions of ions and neutrals extracted from a slot in contact with a high-density plasma 30 : 126 ~ 127
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