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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
서민혜 (고등기술연구원) 홍현선 (고등기술연구원) 정운석 ([주]호진플라텍)
저널정보
한국재료학회 한국재료학회지 한국재료학회지 제18권 제3호
발행연도
2008.1
수록면
117 - 122 (6page)

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Micro-sized bumps on a multi-layered build-up PCB were fabricated by pulse-reverse copper electroplating. The values of the current density and brightener content for the electroplating were optimized for suitable performance with maximum efficiency. The micro-bumps thus electroplated were characterized using a range of analytical tools that included an optical microscope, a scanning electron microscope, an atomic force microscope and a hydraulic bulge tester. The optical microscope and scanning electron microscope analyses results showed that the uniformity of the electroplating was viable in the current density range of $2-4\;A/dm^2$; however, the uniformity was slightly degraded as the current density increased. To study the effect of the brightener concentration, the concentration was varied from zero to 1.2 ml/L. The optimum concentration for micro-bump electroplating was found to be 0.6 ml/L based on an examination of the electroplating properties, including the roughness, yield strength and grain size.
#build-up PCB #pulse-reverse plating #copper electroplating #current density #brightener

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