Excimer Laser-induced Crystallization of Si Films for Manufacturing LTPS TFT-based Displays

Chung, U.J.; Limanov, A.B.; Wilt, P.C. Van Der; Chitu, A.M.; Im, James S.

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저자정보: Chung, U.J. (Program in Materials Science and Engineering, Department of Applied Physics and Applied Mathematics, Columbia University) Limanov, A.B. (Program in Materials Science and Engineering, Department of Applied Physics and Applied Mathematics, Columbia University) Wilt, P.C. Van Der (Program in Materials Science and Engineering, Department of Applied Physics and Applied Mathematics, Columbia University) Chitu, A.M. (Program in Materials Science and Engineering, Department of Applied Physics and Applied Mathematics, Columbia University) Im, James S. (Program in Materials Science and Engineering, Department of Applied Physics and Applied Mathematics, Columbia University)

저널정보: 한국정보디스플레이학회 한국정보디스플레이학회 International Meeting 한국정보디스플레이학회 2007년도 7th International Meeting on Information Display 제7권1호

발행연도: 2007.1

수록면: 7 - 7 (1page)

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Laser-irradiation-induced crystallization of as-deposited amorphous precursor films constitutes an integral step in fabricating LTPS TFTs. Consideration of various factors leads one to conclude that, for display manufacturers, choosing how to crystallize the films can be identified as being tactically and strategically significant. This paper will begin by reviewing the fundamental aspects of laser crystallization, and then present noteworthy advances and progress, which have recently been accomplished in the field. In particular, we will focus on communicating the evolving status associated with the sequential lateral solidification (SLS) method, which can be presently identified as the most strategically enabling crystallization method.

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Chitu, A.M.

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Im, James S.

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