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자료유형
학술대회자료
저자정보
Herbst, Ludolf (Lambda Physik AG) Simon, Frank (Lambda Physik AG) Rebhan, Ulrich (Lambda Physik AG) Geuking, Thorsten (Lambda Physik AG) Klaft, Ingo (Lambda Physik AG) Fechner, Burkhard (Lambda Physik AG)
저널정보
한국정보디스플레이학회 한국정보디스플레이학회 International Meeting 한국정보디스플레이학회 2005년도 International Meeting on Information Displayvol.II
발행연도
2005.1
수록면
1,123 - 1,126 (4page)

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이 논문의 연구 히스토리 (3)

2006

New High Stability Excimer Laser for LTPS Manufacturing
He ,  bst ,  Ludolf 외 9명 한국정보디스플레이학회 International Meeting 2006.01 학술대회자료

2005

Enhanced LTPS Manufacturing Equipment employing Excimer Laser Crystallization
He ,  bst ,  Ludolf 외 15명 한국정보디스플레이학회 International Meeting 2005.01 학술대회자료

2004

New Technology for Creation of LTPS with Excimer Laser Annealing
He ,  bst ,  Ludolf 외 12명 한국정보디스플레이학회 International Meeting 2004.01 학술대회자료

초록· 키워드

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For creation of low temperature polycrystallinesilicon (LTPS) the line beam excimer laser annealing (ELA) is a well known and established technique in mass production. With introduction of Sequential Lateral Solidification (SLS) some aspects such as crystalline quality, throughput and flexibility regarding the substrate size could be improved, but for OLED manufacturing still further process development is necessary. This paper discusses line beam ELA and SLS techniques that might enable process engineers to make polycrystalline-silicon (poly-Si) films with a high degree of uniformity and quality as required for system on glass (SOG) and active matrix organic light emitting displays (AMOLED). Equipment requirements are discussed and compared to previous standards. SEM images of process examples are shown in order to demonstrate the viability.

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