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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
Kim, Hyun-Jae (LCD R&D Center, AMLCD Division, Samsung Electronics)
저널정보
한국정보디스플레이학회 Journal of information display Journal of information display 제4권 제4호
발행연도
2003.1
수록면
1 - 3 (3page)

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For excimer laser annealing (ELA), energy density, number of pulses, beam uniformity, and condition of initial amorphous Si (a-Si) films are significant factors contributing to the final microstructure and the performance of low-temperature polycrystalline Si (LTPS) TFTs. Although the process and equipment have been significantly improved, the environmental factors associated with initial amorphous Si (a-Si) films and process conditions are yet to be optimized.

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