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학술대회자료
저자정보
Szyszka, B. (Fraunhofer Institute for Surface Engineering and Thin Films IST) Ruske, F. (Fraunhofer Institute for Surface Engineering and Thin Films IST) Sittinger, V. (Fraunhofer Institute for Surface Engineering and Thin Films IST) Pflug, A. (Fraunhofer Institute for Surface Engineering and Thin Films IST) Werner, W. (Fraunhofer Institute for Surface Engineering and Thin Films IST) Jacobs, C. (Fraunhofer Institute for Surface Engineering and Thin Films IST) Kaiser, A. (Fraunhofer Institute for Surface Engineering and Thin Films IST) Ulrich, S. (Fraunhofer Institute for Surface Engineering and Thin Films IST)
저널정보
한국정보디스플레이학회 한국정보디스플레이학회 International Meeting 한국정보디스플레이학회 2007년도 7th International Meeting on Information Display 제7권1호
발행연도
2007.1
수록면
181 - 185 (5page)

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We report on our material and process research on ZnO:Al films and on our investigations on wet chemical etching using a variety of etching solutions. We achieve resistivity as low as $750{\mu}{\Omega}cm$ for ZnO:Al films with film thickness of 140 nm. Etching with phosphorous acid allows for accurate fine patterning of the ZnO:Al films on glass substrates.

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