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학술대회자료
저자정보
Herbst, Ludolf (Lambda Physik AG) Simon, Frank (MicroLas GmbH) Rebhan, Ulrich (Lambda Physik AG) Osmanow, Rustem (Lambda Physik AG) Fechner, Burkhard (Lambda Physik AG)
저널정보
한국정보디스플레이학회 한국정보디스플레이학회 International Meeting 한국정보디스플레이학회 2004년도 Asia Display / IMID 04
발행연도
2004.1
수록면
319 - 321 (3page)

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이 논문의 연구 히스토리 (3)

2006

New High Stability Excimer Laser for LTPS Manufacturing
He ,  bst ,  Ludolf 외 9명 한국정보디스플레이학회 International Meeting 2006.01 학술대회자료

2005

Enhanced LTPS Manufacturing Equipment employing Excimer Laser Crystallization
He ,  bst ,  Ludolf 외 15명 한국정보디스플레이학회 International Meeting 2005.01 학술대회자료

2004

New Technology for Creation of LTPS with Excimer Laser Annealing
He ,  bst ,  Ludolf 외 12명 한국정보디스플레이학회 International Meeting 2004.01 학술대회자료

초록· 키워드

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We report on progress in developing high-power excimer lasers as well as UV-optics for creating low-temperature poly silicon (LTPS). A new high-power excimer laser offers 315 Watts with high pulse to pulse energy stability. Larger substrates can now be processed in better quality with either the SLS process or the new optics for line beam excimer laser annealing.

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