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자료유형
학술대회자료
저자정보
Murai, Hideyuki (IA Advanced Technology Dept., OMRON Corporation) Ekawa, Koichi (IA Advanced Technology Dept., OMRON Corporation) Takashima, Jun (IA Advanced Technology Dept., OMRON Corporation) Naito, Hitoshi (IA Advanced Technology Dept., OMRON Corporation) Nakatsuka, Nobuo (IA Advanced Technology Dept., OMRON Corporation)
저널정보
한국정보디스플레이학회 한국정보디스플레이학회 International Meeting 한국정보디스플레이학회 2006년도 6th International Meeting on Information Display
발행연도
2006.1
수록면
1,465 - 1,468 (4page)

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We developed a new ellipsometer for MURA detection. This ellipsometer can measure MURA along the slit line on the sample with high sensitivity, because this ellipsometer irradiates a slit beam onto the sample but can reject the reflected light from the back surface of the substrate. This ellipsometer is suitable for measuring MURA of the surface of sample with high sensitivity.

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