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학술저널
저자정보
신웅철 (충남대학교 공과대학 재료공학과) 이응민 (충남대학교 공과대학 재료공학과) 최영심 (충남대학교 공과대학 재료공학과) 최규정 (충남대학교 공과대학 재료공학과) 최은석 (충남대학교 공과대학 재료공학과) 전영아 (충남대학교 공과대학 재료공학과) 박종봉 (충남대학교 공과대학 재료공학과) 윤순길 (충남대학교 공과대학 재료공학과)
저널정보
한국재료학회 한국재료학회지 한국재료학회지 제10권 제11호
발행연도
2000.1
수록면
749 - 764 (16page)

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약 90 nm 두께의 비정질 TaSiN박막을 poly-Si and $SiO_2/Si$ 기판 위에 rf magnetron sputtering법으로 증착하였다. TaSiN박막은 산소부위기에서 열처리 시 $ 900^{\circ}C$까지 결정화되지 않는 비정질 상을 보였다. 산소의 확산 깊이는 산소분위기 열처리 온도가 증가함에 따라 증가하였으며 $650^{\circ}C$, 30분 열처리시 $Ta_{23}Si_{29}N_{48}$의 경우 약 20 nm의 깊이까지 확산되었다. $Ta_{23}Si_{29}N_{48}$ 박막의 증착 후 비저항은 약 $1,300{\mu}{\Omega}-cm$의 값을 보였지만 산소분위기 열처리시 $700^{\circ}C$ 이상에서 급격히 증가하였다.
#amorphous #diffusion #resistivity

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