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실리콘배향에 따른 산화 속도 영향과 표면 Morphology
공업화학
1997 .01
직접 접합된 Si-Si, Si-$SiO_2$/Si기판쌍의 접합 계면에 관한 연구
한국재료학회지
1994 .01
Si-SiO₂系의 問題点과 研究動向
전기의세계
1985 .06
플라즈마 산화방법을 이용한 질소가 첨가된 실리콘 산화막의 제조와 산화막 내의 질소가 박막트랜지스터의 특성에 미치는 영향
한국재료학회지
2009 .01
전기로를 이용한 $Si∥SiO_2/Si_3N_4∥Si$기판쌍의 직접접합
한국재료학회 학술발표대회
2001 .01
Si(100)의 얇은 산화막을 통한 Co$Si_{2}$형성에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
상부산화 조건에 따른 N/O ( SiO2/Si3N4 ) 구조막의 신뢰성 평가 ( Reliability of N/O ( SiO2/Si3N4 ) Films According to Top Oxidation Condition )
전자공학회논문지-A
1992 .09
다결정 Si/SiO₂ ∥ Si 적층구조에서 SiO₂층의 두께에 따른 유전특성의 변화
한국표면공학회지
2000 .08
D. C. 전압 인가에 의한 Pd-SnOx-Si₃N₄-SiO₂-Si-Al 캐패시터의 산소흡착/탈착 반응
대한전기학회 학술대회 논문집
1997 .07
SiO2-Si 구조의 계면준위 측정에 미치는 빛의 영향 ( The Effect of Illumination on Surface State Density measurement of SiO2-Si Structure )
대한전자공학회 학술대회
1984 .01
인이 주입된 poly-Si/SiO2/Si 기판에서 텅스텐 실리사이드의 형성에 관한 연구 ( Study on Formation of W-Silicide in the Doped-Phosphorus poly-Si/SiO2/Si-Substrate )
전자공학회논문지-A
1996 .03
이온주입시킨 Si-SiO2 계면에서의 전자상태 계산 ( Self-consistent Calculation of Electronic States at ion-implanted Si-SiO2 interface )
대한전자공학회 학술대회
1987 .11
선형열처리를 이용한 Si(100)/Si$_3$N$_4$∥Si (100) 기판쌍의 직접접합
한국재료학회지
2001 .01
선형열처리를 이용한 Si(100)/Si₃N₄∥Si(100)기판쌍의 직접접합
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2000 .11
Si 기판 세정 조건에 따른 산화막의 특성 연구
한국재료학회 학술발표대회
1994 .01
AL / ZnO / Si3N4 / SiO2 / Si 구조의 전기적 특성 및 가스 감지 효과 ( Electrical Property and Gas Sensing Effect of Al / ZnO / Si3N4 / SiO2 / Si Structure )
대한전자공학회 학술대회
1983 .01
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