Charge Reducing Effect of Chemically Amplified Resist

Tetsu ,  o Nakasugi ,  Shunko Magoshi 외 5명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Acid Diffusion Control in Chemically Amplified Positive Resists

김진백 ,  권영길 ,  최재학

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1998 .04

Chemically amplified resists based on the norbornene copolymers with steroid derivatives

김진백 ,  이범욱

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1999 .04

극자외선 리소그래피용 화학증폭형 레지스트

최재학 ,  노영창 ,  홍성권

공업화학

2006 .01

Novel Chemically Amplified Resists for Electron Beam Lithography

이해원 ,  이석규

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1992 .10

Novel Single-Layer Chemically Amplified Resist for 193 nm Lithography

최상준 ,  강율 ,  정동원 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .04

Isomeric Effect Enabled Thermally Driven Self-Assembly of Hydroxystyrene-Based Block Copolymers

Cathe ,  ine Kanimozhi ,  Myungwoong Kim 외 5명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2016 .10

A PED-stabilized Chemically Amplified Resist

김진백 ,  최재학 ,  정민호 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .10

The Effect of Topographic Pattern On Surface Micelles Formation of Poly(styrene-block-4-hydroxystyrene) Copolymer

이근탁 ,  윤보경 ,  히마드리 외 5명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2009 .04

Application of New Empirical Model to the Electron Beam Lithography Process with Chemically Amplified Resists

Young Mog Ham ,  Cheol Hu ,  Chang Nam Ahn 외 4명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Resist Development Process for Sub-0.15 mm Lithography by KrF Imaging

K. Matsunaga ,  D. Kawamu ,  a 외 3명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

전자빔 여기 KrF 레이저 특성에 관한 연구 (Ⅱ)

최부연 ,  이주희

대한전기학회 학술대회 논문집

1985 .07

Dissolution Characteristics and Surface Morphology of Chemically Amplified Positive Resists in X-Ray Lithography

Ji ,  o Nakamu ,  a 외 3명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Synthesis of Polystyrene and Poly(4-hydroxystyrene)-containing Bottlebrush Block Copolymers Featuring Structural Coloration

유용군 ,  서춘희 ,  채창근 외 4명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2019 .04

전자 빔 여기 KRF 레이저 특성에 관한 연구 ( 1 ) ( Characteristics of Electron Beam Excited KRF Laser ( 1 ) )

이영우 ,  이주희 ,  김웅

대한전자공학회 학술대회

1984 .01

New chemically Amplified Deep-UV Resist Based on Difunctional Protecting Group

이대엽 ,  이시형 ,  정시영 외 2명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .04

Synthesis of Poly(4-hydroxystyrene-b -N -vinylamine) Diblock Copolymer by RAFT Polymerization

윤준혁 ,  김태형 ,  김상율

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2018 .10

PED-Stabilized Chemically Amplified Resists Containing Basic Units in the Matrix Polymer

김진백 ,  최재학 ,  권영길

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1998 .04

KrF 형성의 완충기체 영향에 대한 이론적 해석 ( Theoretical Analysis of the Buffer Gas Effects in a KrF Formation )

최부연 ,  이주희

대한전자공학회 학술대회

1990 .01

A Silicon Containing Resist for KrF Excimer Laser Lithography

박상진 ,  이해원

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1998 .04