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Ta2O5 Capacitor전극으로의 PECVD-WNx박막 적용 연구 ( Application of PECVD-WNX Electrode for Ta2O5 Capacitor )
대한전자공학회 워크샵
1997 .01
Au/Nb/WNx(Si)/GaAs Schottky 접합의 열안정성
한국재료학회지
1996 .01
WNx 에미터 전극을 갖는 자기정렬 AlGaAs / GaAs HBT의 제작과 특성 ( Fabrication and Characteristics of Self-aligned AlGaAs / GaAs HBT using WNx , as emitter metal )
대한전자공학회 학술대회
1998 .07
Characteristics of PECVD-WNx as a Diffusion Barrier for ULSI DRAM Applications
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1995 .01
PROPERTIES OF AMORPHOUS WNx THIN FILMS PREPARED BY RF MAGNETRON SPUTTRING
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
The Properties of PECVD-WNx Films as a Glue Layer of CVD Tungsten for Submicron Contact Technology
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1997 .01
DC 반응성 스퍼터링된 TiN 박막의 구조적 및 전기적 특성 ( Structural and Electrical Properties of Reactively Sputtered Titanium Nitride Films )
전자공학회논문지-A
1992 .08
반응성 스퍼터링방법으로 증착된 Ta-N 박막의 미세구조 분석
한국표면공학회지
1994 .10
Si3N4 기판 위에 PECVD 법으로 형성한 Tungsten Nitride 박막의 특성 ( Characteristic of PECVD-WNx Thin Films Deposited on Si3N4 Substrate )
전자공학회논문지-D
1999 .07
반응성 마그네트론 스퍼터링법에 의한 보론카바이드 박막의 제조
한국재료학회 학술발표대회
2003 .01
쌍극 폴리-금속 게이트를 적용한 CMOS 트랜지스터의 특성
전기전자재료학회논문지
2002 .01
스퍼터링 증착법을 이용한 박막 배터리 제조 및 분석
한국생산제조학회 학술발표대회 논문집
2013 .10
갈륨비소에 대하여 전위장벽이 높은 내열성 텅스텐 및 질화텅스텐 접촉 ( Refractory W and WNx Contacts to GaAs Showing Hugh Schottky Barrier Height )
대한전자공학회 학술대회
1989 .07
Reactive Sputtering 법으로 제조된 Tungsten Nitride 박막의 열적 안정성 및 전기저항
한국재료학회 학술발표대회
1999 .01
대향타겟스퍼터링으로 제작된 박막의 결정 배향성
한국표면공학회 학술발표회 초록집
1998 .05
대향타겟스퍼터링으로 제작된 박막의 결정 배향성
한국표면공학회지
1998 .08
반응성 스퍼터링법에 의한 탄탈륨산화막의 특성
대한전자공학회 학술대회
1991 .06
스퍼터링 법에 의해 강판 상에 증착한 Al-Mg 합금 막의 결정 구조
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2016 .05
고속 스퍼터링 공정 기술 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
1998 .05
보론 스퍼터링과 Ar과 N2 가스를 사용한 반응성 스퍼터링 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2019 .11
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