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Si3N4 기판 위에 PECVD 법으로 형성한 Tungsten Nitride 박막의 특성 ( Characteristic of PECVD-WNx Thin Films Deposited on Si3N4 Substrate )
전자공학회논문지-D
1999 .07
Ta2O5 Capacitor전극으로의 PECVD-WNx박막 적용 연구 ( Application of PECVD-WNX Electrode for Ta2O5 Capacitor )
대한전자공학회 워크샵
1997 .01
Characteristics of PECVD-WNx as a Diffusion Barrier for ULSI DRAM Applications
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1995 .01
반응성 스퍼터링 법으로 제조된 WNx 막의 결정 구조
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
플라즈마 화학증착법으로 제조한 B-doped a-$Si_{1-X}$$C_X$:H 박막을 이용한 비정질 실리콘 박막 태양전지에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
Electrical properties and thermal stability of Al/$WN_x$/Ti submicron contact structure
한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회
2002 .01
PROPERTIES OF AMORPHOUS WNx THIN FILMS PREPARED BY RF MAGNETRON SPUTTRING
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
PECVD에 의해 제조된 ($Ba_{1-x}Sr_x$)TiO$_3$ 박막의 특성 및 전기적 성질
한국재료학회 학술발표대회
1996 .01
Al/TiN/Ti 전극의 Submicron contact에서의 전기적특성(2)
대한전기학회 학술대회 논문집
1995 .07
Remote PECVD와 Direct PECVD에 의해 증착된 실리콘 산화막의 특성 평가 ( Evaluation of Silicon Oxide Films Deposited by Remote PECVD and Direct PECVD )
대한전자공학회 학술대회
1991 .11
통계적 기법을 이용한 선택적 CVD 텅스텐 공정 최적화 연구 ( The Optimization of the Selective CVD Tungsten Process using Statistical Methodology )
전자공학회논문지-A
1993 .12
AI/TiN/Ti 전극의 Submicron contact에서의 전기적특성(1)
대한전기학회 학술대회 논문집
1995 .07
접합층을 이용한 선택 텅스텐 화학기상증착 공정연구 ( A Study of Selective W-CVD Process Using the Glue Layer )
전자공학회논문지-A
1992 .12
Effects of Low Resistivity TiN as a Wetting Layer on Submicron Via Contact Filling Process
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1997 .01
Fine Patterning of CVD Tungsten Using Various Mask Materials
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1991 .01
WNx 에미터 전극을 갖는 자기정렬 AlGaAs / GaAs HBT의 제작과 특성 ( Fabrication and Characteristics of Self-aligned AlGaAs / GaAs HBT using WNx , as emitter metal )
대한전자공학회 학술대회
1998 .07
기상화학증착 텅스텐 막질의 표면 형태에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
2008 .06
SUBMICRON DEVICE RELIABILITY RESEARCH
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1989 .01
Au/Nb/WNx(Si)/GaAs Schottky 접합의 열안정성
한국재료학회지
1996 .01
갈륨비소위에 플라즈마 화학 증착한 텅스텐 박막의 특성연구 ( Properties of Tungsten Films Grown on GaAs by PECVD )
대한전자공학회 학술대회
1991 .01
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