Characteristics of PECVD-WNx as a Diffusion Barrier for ULSI DRAM Applications

Byung Lyul Pa ,  k ,  Young Sun Kim 외 6명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1995 .01

Si3N4 기판 위에 PECVD 법으로 형성한 Tungsten Nitride 박막의 특성 ( Characteristic of PECVD-WNx Thin Films Deposited on Si3N4 Substrate )

배성찬 ,  박병남 ,  손승현 외 2명

전자공학회논문지-D

1999 .07

반응성 스퍼터링 법으로 제조된 WNx 막의 결정 구조

이종하 ,  최병호

한국재료학회 학술발표대회

1998 .01

열처리 조건이 PECVD $Ta_{2}O_{5}$ 박막 특성에 미치는 영향

백용구 ,  박영진 ,  김종철 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1992 .01

열처리 조건이 PECVD방식으로 증착된 Ta2O5 박막 특성에 미치는 영향 ( Effect of Annealing Conditions on Ta2O5 Thin Films Deposited By PECVD System )

백용구 ,  은용석 ,  박영진 외 2명

전자공학회논문지-A

1993 .08

The Properties of PECVD-WNx Films as a Glue Layer of CVD Tungsten for Submicron Contact Technology

Hwan Seok Seo ,  이상협 ,  Moo Sung Chae 외 1명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1997 .01

PECVD 법으로 형성된 $Ta_{2}O_{5}$ 유전박막의 전기적 특성에 미치는 급속 후속 열처리의 영향

한성욱 ,  이재석 ,  박종완 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

1993 .01

WNx 에미터 전극을 갖는 자기정렬 AlGaAs / GaAs HBT의 제작과 특성 ( Fabrication and Characteristics of Self-aligned AlGaAs / GaAs HBT using WNx , as emitter metal )

이종민 ,  이태우 ,  박문평 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1998 .07

Al₂O₃ 기판 위에 제작된 Ta/Ta₂O₅/Ta 박막 커패시터의 전기적 특성

김현주 ,  송재성 ,  김인성 외 1명

대한전기학회 학술대회 논문집

2003 .07

DRAM 커패시터용 $Ta_2O_5$ 박막의 전기적 특성에 미치는 전극의존성

김영욱 ,  권기원 ,  하정민 외 3명

한국재료학회지

1991 .01

ECR-PECVD $Ta_{2}O_{5}$ 증착시 형성되는 $SiO_2$에 관한 연구

안성덕 ,  김일 ,  김종석 외 3명

한국재료학회 학술발표대회

1993 .01

Remote PECVD와 Direct PECVD에 의해 증착된 실리콘 산화막의 특성 평가 ( Evaluation of Silicon Oxide Films Deposited by Remote PECVD and Direct PECVD )

정윤권 ,  정문식 ,  강봉구

대한전자공학회 학술대회

1991 .11

$Ta_2O_{5}$ 박막의 누설전류 및 유전특성과 박막응력

이재석 ,  양승기 ,  신상모 외 1명

한국재료학회지

1995 .01

Au/Nb/WNx(Si)/GaAs Schottky 접합의 열안정성

정진영 ,  고경현 ,  안재환 외 1명

한국재료학회지

1996 .01

플라즈마 화학증착법으로 제조한 B-doped a-$Si_{1-X}$$C_X$:H 박막을 이용한 비정질 실리콘 박막 태양전지에 관한 연구

정연학 ,  박재석 ,  이재신

한국재료학회 학술발표대회

1998 .01

PECVD에 의한 질화 실리콘 박막의 증착

허창우

한국정보통신학회논문지

2007 .11

B-TA 기술

이창범

한국통신학회 워크샵

1995 .01

PECVD법에 의한 DLC 박막의 증착

김상호 ,  김동원

한국표면공학회지

2002 .04

PECVD를 이용한 Si₃N₄ 박막의 공정변수에 따른 특성분석과 응용

신재완 ,  이복형 ,  이성대 외 6명

대한전자공학회 학술대회

1999 .06

PECVD(Plasma enhanced chemical vapor deposition)방법에 의한 a-C:H 박막의 열처리에 관한 연구

한준희 ,  진억용

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01