PECVD(Plasma enhanced chemical vapor deposition)방법에 의한 a-C:H 박막의 열처리에 관한 연구

한준희 ,  진억용

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

Remote PECVD 산화막의 증착특성 및 박막 특성 연구 ( A Study of Deposition Properties and Characteristics of SiO2 film Grown by Remote Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition )

정윤권 ,  정문식 ,  김흥락 외 2명

전자공학회논문지-A

1992 .08

가스 유량과 RF Power에 따라 PECVD 방법으로 증착된 DLC 박막의 특성

정선영 ,  김현기 ,  주성후

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2018 .06

PECVD를 이용한 SiO2 / Si3N4 박막의 특성 고찰 ( Characteristics of SiO2 / Si3N4 Films Using the PECVD Method Under Various Conditions )

김우진 ,  임우택 ,  김재영 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1991 .11

Formation of SiO:CH Particles by PECVD and Microstructures of Their Deposits

Yasushi Inoue ,  Shigeki Kuzuoka ,  Osamu Takai

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

플라즈마 화학 증착법으로 제조된 (Ti_1-xAl_x)N 박막의 열처리에 따른 특성 평가

이승훈 ,  임주완

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2001 .11

Remote PECVD와 Direct PECVD에 의해 증착된 실리콘 산화막의 특성 평가 ( Evaluation of Silicon Oxide Films Deposited by Remote PECVD and Direct PECVD )

정윤권 ,  정문식 ,  강봉구

대한전자공학회 학술대회

1991 .11

플라즈마 진단에 의한 PECVD SiO₂ 증착의 불균일성 원인 연구

함용현 ,  이현우 ,  권광호

전기전자재료학회논문지

2011 .01

Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposited Silicon Oxide Gas Barrier Coatings on Polymeric Substrate Films

Choudhu ,  y Moinul Haque ,  김원호 외 2명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2008 .04

Nanoporous Low-k Allyltrimethylsilane(ATMS) Films Deposited by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition(PECVD)

박종민 ,  공병선 ,  정희태

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2011 .04

아르곤 스퍼터링 방법을 이용한 PECVD 실리콘 산화막의 특성 향상

박민 ,  박종문 ,  현영철 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1995 .01

신경회로망을 이용한 PECVD 산화막의 특성 모형화

이은진 ,  김태선

전기전자재료학회논문지

2010 .01

Optimization of Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposited SiO₂ film as an Etch Stop Layer for Oxide Semiconductor Thin-Film Transistors

Sung Haeng Cho ,  Min Ki Ryu ,  Chi-Sun Hwang 외 2명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

Fabrication of soluble organic thin film transistor with ammonia ($NH_3$) plasma treatment

Kim ,  Dong-Woo ,  Kim 외 11명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2009 .01

PECVD 공정에 의해 제조된 $SiO_2$ 절연층에 관한 연구

이재욱 ,  이수열 ,  선우국현 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

1994 .01

PECVD 방법으로 증착된 알루미늄 산화박막의 조성 및 구조 분석

김용천 ,  이원종 ,  천성순

한국재료학회 학술발표대회

1992 .01

혼합된 Ar, N₂ 가스 유량에 따른 PECVD 방법에 의하여 제작된 다이아몬드 상 탄소 박막의 특성

강성호 ,  김병진 ,  배경태 외 1명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2018 .06

The Improvement of the Off-Current Characteristics in the Short Channel a-Si:H TFTs

Bang ,  J.H. ,  Ahn 외 15명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2008 .01

Effects of ZnO coatings deposited on PEN by plasma enhanced chemical vapor deposition

송준용 ,  김원호 ,  김주호 외 3명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2010 .04