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PECVD를 이용한 SiO2 / Si3N4 박막의 특성 고찰 ( Characteristics of SiO2 / Si3N4 Films Using the PECVD Method Under Various Conditions )
대한전자공학회 학술대회
1991 .11
공정데이터를 이용한 PECVD공정의 Fault Localization
대한산업공학회 추계학술대회 논문집
2013 .11
ECR-PECVD $Ta_{2}O_{5}$ 증착시 형성되는 $SiO_2$에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1993 .01
Remote PECVD와 Direct PECVD에 의해 증착된 실리콘 산화막의 특성 평가 ( Evaluation of Silicon Oxide Films Deposited by Remote PECVD and Direct PECVD )
대한전자공학회 학술대회
1991 .11
Formation of SiO:CH Particles by PECVD and Microstructures of Their Deposits
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2013 .11
HMDSO/O₂ PECVD를 이용한 SiO₂ 박막 증착 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2013 .05
아르곤 스퍼터링 방법을 이용한 PECVD 실리콘 산화막의 특성 향상
한국재료학회 학술발표대회
1995 .01
고주파 마그네트론 스퍼터링으로 제조한 SiO₂ 절연박막의 구조분석 및 절연저항에 관한 연구
한국표면공학회지
2002 .04
Si$O_{2}/{Si}_{0.7}{Ge}_{0.3}/SiO_{2}$계에서의 계면응집현상에 의한 양자점 형성에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
플라즈마 화학증착법으로 제조한 B-doped a-$Si_{1-X}$$C_X$:H 박막을 이용한 비정질 실리콘 박막 태양전지에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
PECVD에 의한 μc-Si : H 박막트랜지스터의 제조 ( Fabrication of μc-Si : H TFTs by PECVD )
전자공학회논문지-A
1996 .05
플라즈마 진단에 의한 PECVD SiO₂ 증착의 불균일성 원인 연구
전기전자재료학회논문지
2011 .01
SiO₂ 나노 분말을 이용한 필름의 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
2009 .11
PECVD산화막을 이용한 삼층금속배선공정에 관한 연구 ( The Study on the Triple-Level metallization process Using PECVD Oxide )
대한전자공학회 학술대회
1990 .07
Remote PECVD SiO2를 이용한 InSb MIS소자의 특성 ( Characteristics of InSb MIS device prepared by remote PECVD SiO2 )
전자공학회논문지-A
1996 .12
PECVD를 이용한 Si₃N₄ 박막의 공정변수에 따른 특성분석과 응용
대한전자공학회 학술대회
1999 .06
PECVD 기법에 의해 제조된 나노 결정 Si 박막의 구조 및 광학적 특성
한국재료학회 학술발표대회
2002 .01
PECVD 기법을 이용한 나노 결정 Si 박막의 제조 및 특성 평가
한국재료학회 학술발표대회
2001 .01
ECR-PECVD법으로 증착된 $Al_{2}O_3$ 절연 박막의 특성에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1993 .01
PECVD에 의해 제조된 ($Ba_{1-x}Sr_x$)TiO$_3$ 박막의 특성 및 전기적 성질
한국재료학회 학술발표대회
1996 .01
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