Effect of the Fluorine Treatment for the Reduction of Al ( Cu 1% ) Corrosion After Plasma Etching

김창일 ,  권광호 ,  윤선진 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

Al-Cu막의 플라즈마 식각후 부식 억제에 관한 연구

김환준 ,  김창일 ,  권광호 외 3명

대한전기학회 학술대회 논문집

1997 .07

Al ( Cu 1% ) 플라즈마 식각후 fluorine 처리에 의한 passivation 막 형성 ( The formation of the passivation layer by the fluorine treatment after Al ( Cu 1% ) plasma etching )

김창일 ,  권광호 ,  김상기 외 4명

전자공학회논문지-D

1998 .01

Surface Analysis of Fluorine-Plasma Etched Y-Si-Al-O-N Oxynitride Glasses

Lee ,  Jung-Ki ,  Hwang 외 5명

한국재료학회 학술발표대회

2009 .01

Plasma etching behavior of RE-Si-Al-O glass (RE: Y, La, Gd)

이정기 ,  황성진 ,  이성민 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

2010 .01

Dry Etching of Cu With Cl2 Plasma and PEt3

Sung Eon Pa ,  k ,  Ki Bum Kim

대한전자공학회 학술대회

1996 .01

Al(Si, Cu) 고용체의 플라즈마 식각후 표면특성연구

박형호 ,  권광호 ,  조경익 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

1993 .01

Al Etch and After-Corrosion Characteristics in a M=0 Helicon Wave Plasma Etcher

Jae Hee Ha ,  M. H. Yim ,  J. J. Kim

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Cl2/Ar 플라즈마를 이용한 Al2O3 박막의 식각

양설 ,  엄두승 ,  송상헌 외 2명

전기전자재료학회논문지

2009 .01

Dependence of cation ratio in Oxynitride Glasses on the plasma etching rate

Lee ,  Jung-Ki ,  Hwang 외 5명

한국재료학회 학술발표대회

2009 .01

Reduction of reflection from PET (polyethylene terephthalate) film surface by natural plasma etching

Oh ,  Hoon ,  Song 외 3명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2006 .01

나노 반도체 소자를 위한 펄스 플라즈마 식각 기술

양경채 ,  박성우 ,  신태호 외 1명

한국표면공학회지

2015 .12

Etching characteristics of Al-Nd alloy thin films using magnetized inductively coupled plasma

Y.J. Lee ,  H.R. Han ,  G.Y. Yeom

한국표면공학회 학술발표회 초록집

1999 .10

Dry etching of ZnO thin film using a $CF_4$ mixed by Ar

Kim ,  Do-Young ,  Kim 외 1명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2009 .01

Optimized Process Analysis of SiO₂ etch using CFD Simulation

Han-Bit Kim ,  Tae-Ho shin ,  Byeong-Gwan ji 외 7명

대한전자공학회 학술대회

2017 .01

Dry Etching of Au Films Using CF4 and O2 Plasma

이종수 ,  권영세

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

Etching Effect of Solution Plasma on Gold Nanoparticles

Junko Hieda ,  Takahi ,  o Ishizaki 외 3명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2008 .06

Characteristics of Ag Etching using Inductively Coupled Halogen-based Plasmas

Pa ,  k ,  Sang-Duk 외 10명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2002 .01

Fabrication of soluble organic thin film transistor with ammonia ($NH_3$) plasma treatment

Kim ,  Dong-Woo ,  Kim 외 11명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2009 .01

Investigation of Plasma Etching Properties of Polymeric Materials Used for Packaging Application

Chang-ho Ra ,  Li Huamin ,  Yoo won jong 외 3명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2008 .06