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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2013.11
- 수록면
- 303 - 308 (6page)
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본 논문에서는 Display제조공정의 Low Temperature Poly Silicon(LTPS)단계에서 Plasma enhanced chemical vapor deposition(PECVD)공정과 결정불량의 상관관계를 살펴보고, PECVD공정 내 결정불량의 유발인자들의 발생 메커니즘을 알아보고자 한다. 설명변수로 PECVD의 공정 데이터를 이용하였으며, 시뮬레이션 방법은 progressive principal component analysis(progressive PCA)와 Squared prediction error(SPE) time series그래프를 사용하였다. 이 시뮬레이션 방법은 각 변수들의 단변량적인 통계분석을 넘어서 변수들간의 교호작용까지 고려한 다변량 통계 방법으로서 공정 이상을 정확히 예측하고, 분석하여 공정관리 효율과 공정능력을 높이는데 도움이 된다. 본 논문에서는 결정불량 발생에 영향을 주는 PECVD공정의 변수들을 찾아 내고, T²와 SPE time series그래프를 통해 변수들의 이상거동 시점을 파악하였다. 그리고 PECVD기인성 결정불량의 발생시나리오를 예측하였다. 본 알고리즘은 PECVD공정과 결정불량의 상관관계를 밝히는 것 이외에도 제조공정의 다른 설비 또는 단위공정에 적용될 수 있다. 이는 다양한 불량들의 원인인자를 찾고 공정과의 상관관계를 분석하는데 도움을 줄 것으로 예상한다.
목차
1. INTRODUCTION
2. 배경 이론
3. 불량 탐지 결과
4. 결론
참고문헌
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