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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
김난수 (한국기술교육대학교 응용화학공학과) 남병욱 (한국기술교육대학교 응용화학공학과)
저널정보
한국반도체디스플레이기술학회 반도체및디스플레이장비학회지 반도체및디스플레이장비학회지 제8권 제3호
발행연도
2009.1
수록면
25 - 30 (6page)

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In this study, we synthesized novel UV-curable binders and applied for negative photoresist of display device. First, we synthesized UV-curable binders by radical polymerization with a mixture of Styrene/Methyl methacrylate/Methacrylic acid/Glycidyl methacrylate/N-Cyclohexylmaleimide at a fixed composition. Following the first step, we prepared a negative photoresist mixture optimized with photo sensitive initiator and others for the litho test. And then, we studied resolution and film retention with molecular weight of each binders and numerical value of Alkaline Desolution Rate(ADR). As a result of the litho test, we found that if the novel polymers have same numerical value of ADR, the resolution decreased and the film retention increased with the increasing of molecular weight of photoresist binder.
#Negative photoresist #synthesis #binder #UV-curable #Lithography

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