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저자정보
Lee, Je-Hun (LCD Business, Samsung Electronics Co., LTD) Kim, Do-Hyun (LCD Business, Samsung Electronics Co., LTD) Yang, Dong-Ju (LCD Business, Samsung Electronics Co., LTD) Hong, Sun-Young (LCD Business, Samsung Electronics Co., LTD) Yoon, Kap-Soo (LCD Business, Samsung Electronics Co., LTD) Hong, Pil-Soon (LCD Business, Samsung Electronics Co., LTD) Jeong, Chang-Oh (LCD Business, Samsung Electronics Co., LTD) Lee, Woo-Geun (LCD Business, Samsung Electronics Co., LTD) Song, Jin-Ho (LCD Business, Samsung Electronics Co., LTD) Kim, Shi-Yul (LCD Business, Samsung Electronics Co., LTD) Kim, Sang-Soo (LCD Business, Samsung Electronics Co., LTD) Son, Kyoung-Seok (Samsung Advanced Institute of Technology, Display Device & Processing Lab) Kim, Tae-Sang (Samsung Advanced Institute of Technology, Display Device & Processing Lab) Kwon, Jang-Yeon (Samsung Advanced Institute of Technology, Display Device & Processing Lab) Lee, Sang-Yoon (Samsung Advanced Institute of Technology, Display Device & Processing Lab)
저널정보
한국정보디스플레이학회 한국정보디스플레이학회 International Meeting 한국정보디스플레이학회 2008년도 International Meeting on Information Display
발행연도
2008.1
수록면
1,203 - 1,207 (5page)

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For a large sized, ultra definition (UD) and high refresh rate for motion blur free AMLCD TVs, amorphous IGZO thin film transistor (TFT) are applied and investigated in terms of threshold voltage ($V_{th}$) shift influenced by active layer thickness uniformity, source drain etching technology, heat treatment and passivation condition. Optimizing above parameters, we fabricated the world's largest 15 inch XGA AMLCD successfully.
#IGZO #threshold voltage #uniformity #passivation #thickness

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