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저자정보
Kim, Hong-Sik (Advanced Development Division, LG Display) Lim, Joo-Soo (Advanced Development Division, LG Display) Hong, Hyun-Seok (Advanced Development Division, LG Display) Kwack, Hee-Yong (Process Development Division, LG Display) Ahn, Sung-Hoon (Process Development Division, LG Display) Yu, Sang-Jeon (Process Development Division, LG Display) Shin, Jong-Keun (Advanced Development Division, LG Display)
저널정보
한국정보디스플레이학회 한국정보디스플레이학회 International Meeting 한국정보디스플레이학회 2009년도 9th International Meeting on Information Display
발행연도
2009.1
수록면
594 - 596 (3page)

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Amorphous silicon nitride (a-SiNx) passivation film as a passivation layer of TFT-LCDs was deposited by AC-reactive sputtering at low temperature. As a result, the electrical characteristics and reliability of TFT with novel passivation showed the same level as the conventional TFT. Finally, we have developed 47"Full HD IPS TFT-LCDs with sputtered amorphous silicon nitride. It is suitable for low temperature based applications such as OTFT and Flexible display.
#Sputter #SiNx #Low Temperature #TFT #Stability

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