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학술저널
저자정보
Eugene Chong (과학기술연합대학원대학교) Yoon Soo Chun (과학기술연합대학원대학교) Seung Han Kim (과학기술연합대학원대학교) Sang Yeol Lee (과학기술연합대학원대학교)
저널정보
대한전기학회 Journal of Electrical Engineering & Technology Journal of Electrical Engineering & Technology Vol.6 No.4
발행연도
2011.7
수록면
539 - 542 (4page)

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Thin-film transistors (TFTs) are fabricated using an amorphous indium gallium zinc oxide (a-IGZO) channel layer by rf-magnetron sputtering. Oxygen partial pressure significantly changed the transfer characteristics of a-IGZO TFTs. Measurements performed on а-IGZO TFT show the change of threshold voltage in the transistor channel layer and electrical properties with varying O₂ ratios. The device performance is significantly affected by adjusting the O2 ratio. This ratio is closely related with the modulation generation by reducing the localized trapping carriers and defect centers at the interface or in the channel layer.

목차

Abstract
1. Introduction
2. Experiments
3. Discussion
4. Conclusion
Acknowledgment
References

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