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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 저널정보
- 대한전자공학회 ICEIC : International Conference on Electronics, Informations and Communications ICEIC : 2010
- 발행연도
- 2010.6
- 수록면
- 392 - 394 (3page)
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Three dimensional or multilevel structures are fabricated by two step conventional photolithography with two different types of photoresists. Solubility difference between epoxy-type (SU-8) and novolak-type (AZ-1518) photoresist to the other developer makes this metho ... 전체 초록 보기
목차
Abstract
Ⅰ. Introduction
Ⅱ. Experimental or Theory
Ⅲ. Discussions
Ⅳ. Coclusions
References
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