O₂와 N₂ 플라즈마를 이용한 감광제의 패턴 축소 연구

김한형 ,  양승국 ,  이종근 외 4명

대한전자공학회 학술대회

2009 .07

Development of Novel Photoresist Removal Process using Multi-phase Plasma

Tatsuo Ishijima ,  Kouhei Nosaka ,  Yousuke Goto 외 5명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

Photoresist 용 Novolak Resin 의 특성 (Ⅱ)

서동철 ,  김성주 ,  김지홍 외 2명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1992 .10

Hydrogen Plasma Characteristics for Photoresist Stripping Process in a Cylindrical Inductively Coupled Plasma

Seung-Kook Yang ,  Jung Hee Cho ,  Seong-Wook Lee 외 4명

JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE

2013 .08

대면적 내장 선형 ICP(inductively coupled plasma) system에서 자장이 플라즈마와 PR(Photoresist) 식각 특성에 미치는 영향

오창권 ,  김경남 ,  염근영

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2005 .05

Photoresist Technology

김진백

대한전자공학회 워크샵

1989 .01

Analysis of Chemical and Morphological Changes of Phenol Formaldehyde-based Photoresist Surface caused by O2 Plasma

D. A. Shutov ,  Seung-Youl Kang ,  Kyu-Ha Baek 외 3명

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2007 .01

고밀도 산소 플라즈마를 이용한 감광제 제거공정에 관한 연구 ( A Study on Photoresist Stripping Using High Density Oxygen Plasma )

정형섭 ,  이종근 ,  박세근

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

고밀도 산소 플라즈마를 이용한 감광제 제거공정에 관한 연구

정형섭 ,  이종근 ,  박세근

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

Removal of Photoresist Residues of Graphene by Using Plasma Treatments

임영대 ,  Qu Deshun ,  유원종

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2012 .11

Fabrication of multilayer patterns using adaptive two-step photolithography

G. Lee ,  J. H. Han ,  S. Pa 외 1명

ICEIC : International Conference on Electronics, Informations and Communications

2010 .06

Photolithography Process of Organic Thin Film with A New Water Soluble Photoresist

Kim ,  Kwang-Hyun ,  Song 외 1명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2004 .01

($Ar+N_2$)분위기 중에 제작된 Fe-B-Si-N 합금 박막의 연자기적 성질

박지종 ,  김종오

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

Fabrication of Multilevel layers for Optical Printed Circuit Board by Modified Two-step Photolithography

Han-Hyoung Kim ,  Seung-Kook Yang ,  Sang-Hyun Sin 외 11명

ICEIC : International Conference on Electronics, Informations and Communications

2008 .06

Micro-Plasma Device Utilizing SU-8 Photoresist as a Barrier Rib

Jhuo ,  Long-Cai ,  Kim 외 1명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2006 .01

Photoresists for Interface and Thin Layer Imaging Processes

김진백

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2011 .04

정보기능용 고분자 ( Photoresist )

김진백

고분자 과학과 기술

1990 .11

Plasma Properties of Dual-Frequency Inductively Coupled Plasma Source

이승민 ,  김경남 ,  김태형 외 4명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2014 .05

PR(Photoresist) 분사량 측정에 관한 연구

신동원 ,  이성영 ,  김상식 외 2명

대한전자공학회 학술대회

2008 .06

유도 결합형 플라즈마를 이용한 감광제 제거 반응로의 설계

김철식 ,  김철호 ,  이현중 외 4명

대한전자공학회 학술대회

1998 .06