XeCl Excimer Laser Annealing Used to Fabricate Poly-Si TFT`s

T. Sameshima; S. Usui

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자료유형: 학술대회자료

저자정보: T. Sameshima S. Usui

저널정보: 대한전자공학회 대한전자공학회 워크샵 대한전자공학회 워크샵(Advanced and Future Microelectronics Workshop - LCD 및 SRAM용 TFT기술)

발행연도: 1991.1

수록면: 187 - 193 (7page)

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