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논문 기본 정보

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저널정보
한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology 한국진공학회지 제10권 제1호
발행연도
2001.4
수록면
22 - 26 (5page)

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Plasma assisted molecular beam epitaxy(PAMBE)를 사용하여 Si 기판 위에 성장시킨 AIN 박막에 대하여 성장온도 및 기판의 방향성에 따른 박막의 결정성 변화를 분석하였다. Reflection high energy electron diffraction(RHEED) 패턴을 이용하여 성장 중의 결정성을 관찰하였고, 성장 후에는 X-ray diffraction (XRD), double crystal X-ray diffraction(DCXD), transmission electron microscopy/diffraction(TEM/TED) 분석을 하였다. 850℃ 이상의 온도에서 Si(100)웨서 성장된 AIN박막은 육방정계의 c축 방향으로 우선 배향되었음을 확인하였으며 Si(111)위에 성장된 AIN박막의 경우 AIN(0001)/Si(111), AIN(1100)/Si(110),AlN(1120)/Si(112)의 결정방위를 가지고 성장하였음을 확인하였다. 또한 Si(111)기판 위에서는 전위와 적층결함 등 많은 결정결함에 의해 DCD 패턴의 반치폭이 2θ=36.2˚에서 약 3000arcsec에 이르는 등 결정성은 좋지 않았으나 AIN박막이 단결정으로 성장된 것으로 나타났다.

목차

요약

Abstract

1. 서론

2. 실험방법

3. 결과 및 고찰

4. 결론

참고문헌

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