산소 유량비 변화에 따른 AlN 박막의 구조, 표면 및 광학적 특성

조신호; 김문환

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자료유형: 학술저널

저자정보: 조신호 (신라대학교) 김문환 (신라대학교)

저널정보: 한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology 한국진공학회지 제19권 제4호

발행연도: 2010.7

수록면: 287 - 292 (6page)

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산소 유량비 변화에 따른 라디오파 반응성 마그네트론 스퍼터링 방법으로 성장된 AlN 박막의 구조, 표면 및 광학적 특성을 조사하였다. AlN 박막은 기판 온도 300℃에서 성장되었으며, 반응성 가스로 질소와 산소 가스를 사용하였다. 산소 유량비는 공급되는 질소와 산소 혼합 가스양에 대한 산소의 유량비로 선택하여 0%, 10%, 15%, 20%, 25%, 30%로 제어하였다. 성장된 AlN 박막의 구조, 표면과 광학적 특성은 각각 X-선 회절장치, 전자주사현미경과 자외선-가시광 분광기를 사용하여 조사하였다. 산소 유량비 10%로 증착된 AlN 박막은 350∼1,100 ㎚ 파장 영역에서 평균 91.3%의 투과율과 4.30 eV의 광학 밴드갭 에너지를 나타내었다. 실험 결과는 산소 유량비를 변화시킴으로써 AlN 박막을 선택적으로 성장시킬 수 있음을 제시한다.

#AlN 박막 #라디오파 반응성 마그네트론 스퍼터링 #산소 유량비 #AlN thin film #RF reactive magnetron sputtering #Oxygen flow ratio

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5. [학술지(정기간행물)] - K. Dovidenko / 1996 / / J. Appl. Phys. 79 : 2439 ~

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