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이용수
요약
Abstract
1. 서론
2. 지배방정식
3. 결과 및 논의
4. 결론
감사의 글
참고문헌
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헬리콘 플라즈마에서 이온 에너지 분포 및 플라즈마 전위에 관한 연구
Applied Science and Convergence Technology
1995 .06
헬리콘 플라즈마의 전기적 특성
Applied Science and Convergence Technology
1996 .03
낮은 자기장하에서 헬리콘 플라즈마 밀도의 시간적 진동에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1999 .02
ICP와 헬리콘 플라즈마를 이용한 대면적 고밀도 플라즈마 소스 개발
한국진공학회 학술발표회초록집
2011 .08
식각공정용 가스방전에서 이온 및 활성종 밀도의 전자밀도 및 온도 의존성에 대한 수치해석적 분석
Applied Science and Convergence Technology
2011 .11
헬리콘 플라즈마로부터 중성입자 흐름의 생성 및 이를 이용한 실리콘의 건식식각
Applied Science and Convergence Technology
1998 .11
Modeling on discharge characteristics of helicon plasmas
한국진공학회 학술발표회초록집
2000 .07
반사계를 이용한 헬리콘 플라즈마 밀도측정
한국진공학회 학술발표회초록집
2012 .08
헬리콘 플라즈마를 이용한 고선택비 산화막 식각에 관한 연구
Applied Science and Convergence Technology
1998 .11
가스 주입구의 위치가 헬리콘 플라즈마 특성 및 산화막 식각에 미치는 영향
한국진공학회 학술발표회초록집
1997 .07
헬리콘 플라즈마의 연구 현황
한국진공학회 학술발표회초록집
2000 .02
헬리콘 플라즈마의 전기적 특성
한국진공학회 학술발표회초록집
1996 .02
고밀도 유도 결합 플라즈마 장치의 SiH₄/O₂/Ar 방전에 대한 공간 평균 시뮬레이터 개발
Applied Science and Convergence Technology
2008 .09
헬리콘 플라즈마를 이용한 고선택비 산화막 식각 특성
한국진공학회 학술발표회초록집
1997 .02
유한한 폭을 고려한 helicon 방전 장치의 impedance 계산
한국진공학회 학술발표회초록집
1997 .07
C₄F8 / H₂ 헬리콘 플라즈마를 이용한 고선택비 산화막 식각공정시 실리콘 표면의 오염 및 손상에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1997 .07
Development of Helicon Plasma Sources and Applications
한국진공학회 학술발표회초록집
1995 .06
글로벌 모델에 의한 CF₄플라즈마에서의 라디칼 및 이온 밀도 계산
Applied Science and Convergence Technology
1998 .11
평판형 유도결합 플라즈마 장치의 SiH₄/H₂ 방전에 대한 공간 평균 전산모사
Applied Science and Convergence Technology
2009 .11
유도 결합 플라즈마에서 밸런스 파워에 의한 전자밀도의 증가 효과
한국진공학회 학술발표회초록집
2011 .02
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