메뉴 건너뛰기
.. 내서재 .. 알림
소속 기관/학교 인증
인증하면 논문, 학술자료 등을  무료로 열람할 수 있어요.
한국대학교, 누리자동차, 시립도서관 등 나의 기관을 확인해보세요
(국내 대학 90% 이상 구독 중)
로그인 회원가입 고객센터 ENG
주제분류
인문학
인문학 일반 역사학 철학 종교학 어문학 기타 인문학
사회과학
사회과학 일반 경영학 관광학 교육학 군사학 문헌정보학 법학 사회학 신문방송학 심리과학 정치외교학 지리학 행정학 경제학 무역학 인류학 기타 사회과학
자연과학
자연과학 일반 물리학 생물학 생활과학 수학·통계학 천문학 지구과학 화학 기타 자연과학
공학
공학 일반 건축공학 기계공학 산업공학 재료·에너지공학 전기전자공학 조선해양공학 화학공학 컴퓨터학 기타공학
의약학
의학 일반 간호학 수의학 약학 한의학 기초의학 임상의학 기타 의약학
농수해양학
농수해양학 일반 농학 수산학 식품과학 임학 축산학 해상운송학 기타 농수해양학
예술체육학
예술 일반 디자인 미술 미용 사진 음악학 의상 체육 공연매체예술 기타 예술체육학
복합학
학제간연구 과학기술학 뇌인지과학 기술정책 기타 복합학

ENG

추천
검색
질문

논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
안충기 (충북대학교) 박민혜 (충북대학교) 손형민 (충북대학교) 신우형 (충북대학교) 권득철 (국가핵융합연구소) 유신재 (한국표준과학연구원) 김정형 (한국표준과학연구원) 윤남식 (충북대학교)
저널정보
한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology 한국진공학회지 제20권 제6호
발행연도
2011.11
수록면
422 - 429 (8page)

이용수

표지
📌
연구주제
📖
연구배경
🔬
연구방법
🏆
연구결과
AI에게 요청하기
추천
검색
질문

초록· 키워드

오류제보하기
식각공정에 주로 사용되는 Cl₂/Ar, CF₄, CF₄/O₂ CF₄/H₂, C₂F?, C₄F?, 그리고 SF? 가스 방전에서 이온, 중성종 및 활성종 밀도의 전자밀도와 온도에 대한 의존성을 수치해석적으로 분석하였다. 이온, 중성종 및 활성종 밀도에 대한 공간평균 유체방정식을 정상상태로 가정하여 상대적으로 측정이 용이한 전자밀도와 온도에 대한 식으로 표현하였고, 이 식을 수치해석적인 방법으로 풀었다. 계산에 사용된 반응계수들은 여러 문헌에서 수집되거나 산란단면적으로부터 계산되었고, 같은 반응에 대해 다른 값을 보일 경우, 계산 결과를 실험 결과와 비교하여 높은 일치도를 보이는 값이 선택되었다.
#플라즈마 #활성종 조성 #식각 공정 #Plasma #Radical composition #Etching process

목차

Ⅰ. 서론
Ⅱ. 모델링
Ⅲ. 결과
Ⅳ. 결론
감사의 글
참고문헌

참고문헌 (30)

참고문헌 신청
1. [학술지(정기간행물)] - Won-Ki Kim / 2006 / Comparison of Plasma Densities Measured by Using Electrical Probes to Those Measured by Using Microwave Probes in Inductively Coupled Plasmas / Journal of the Korean Physical Society 49 (4) : 1687 ~ 1690 google schola 2. [학술지(정기간행물)] - Jung-Hyung Kim / 2005 / Characteristics of CFx Radicals and Plasma Parameters in an Inductively Coupled CF4 Plasma / Journal of the Korean Physical Society 47 (1) : 249 ~ 255 google schola 3. [학술지(정기간행물)] - J. R. Roberts / 1995 / / J. Res. Natl. Inst. Stand. Technol 100 : 353 ~ google schola 4. [학술지(정기간행물)] - R. E. March / 1997 / / Journal of Mass Spectrometry 32 : 351 ~ google schola 5. [학술지(정기간행물)] - S. Tinck / 2008 / / J. Phys. D: Appl. Phys 41 : 1 ~ google schola

이 논문의 저자 정보

이 논문과 함께 이용한 논문

450 ㎜ 웨이퍼 공정용 System의 기하학적 구조에 따른 플라즈마 균일도 모델링 분석
양원균 ,  주정훈 Applied Science and Convergence Technology 2010 .05
오제전자분광법의 현재와 미래
강희재 진공이야기 2018 .09
반도체 식각 공정용 공간 평균 시뮬레이터 및 데이터베이스 개발
권득철 ,  이세아 ,  장원석 외 6명 한국표면공학회 학술발표회 초록집 2013 .05
시각적 조형요소에 의한 시퀀스 분석 : 그림책 일러스트레이션을 중심으로
박은영 Archives of Design Research 2012 .11
가스 주입구의 위치가 헬리콘 플라즈마 특성 및 산화막 식각에 미치는 영향
김정훈 ,  김진성 ,  김윤택 외 2명 한국진공학회 학술발표회초록집 1997 .07

최근 본 자료

전체보기

댓글(0)

0

UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2019-420-001273604