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이용수
요약
서론
본론
결론
참고문헌
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헬리콘 플라즈마를 이용한 고선택비 산화막 식각 특성
한국진공학회 학술발표회초록집
1997 .02
C₄F8 / H₂ 헬리콘 플라즈마를 이용한 산화막 식각시 형성된 잔류막 손상층이 후속 실리사이드 형성 및 전기적 특성에 미치는 효과
한국진공학회 학술발표회초록집
1998 .02
헬리콘 플라즈마의 전기적 특성
한국진공학회 학술발표회초록집
1996 .02
헬리콘 플라즈마의 연구 현황
한국진공학회 학술발표회초록집
2000 .02
낮은 자기장하에서 헬리콘 플라즈마 밀도의 시간적 진동에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1999 .02
반사계를 이용한 헬리콘 플라즈마 밀도측정
한국진공학회 학술발표회초록집
2012 .08
헬리콘 고밀도 플라즈마로부터 라디칼 빔의 추출 및 이를 이용한 실리콘의 건식식각
한국진공학회 학술발표회초록집
1998 .07
헬리콘 플라즈마의 모드변환 영역 근처에서 충돌에 의한 에너지 흡수에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2009 .02
Lower Hybrid 주파수 부근에서 헬리콘 플라즈마의 주파수 특성
한국진공학회 학술발표회초록집
1996 .06
C₄F8 / H₂ 헬리콘 플라즈마를 이용한 고선택비 산화막 식각공정시 실리콘 표면의 오염 및 손상에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1997 .07
식각 공정을 위한 C₄F8/O2/Ar및 C₄F8/O2/Kr플라즈마의 특성 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
150㎜ GaAs 웨이퍼의 플라즈마 식각에서 식각 깊이의 균일도에 대한 가스 흐름의 최적화 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2002 .02
발광 분광 분석법 및 잔류가스 분석기를 이용한 NF₃ 플라즈마 반응성 이온 식각 장치의 실리콘 식각 진단 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
영구 자석을 이용한 다수 헬리콘 방전의 특성연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2010 .08
헬리콘 플라즈마를 이용한 고선택비 산화막 식각에 관한 연구
Applied Science and Convergence Technology
1998 .11
자성 메모리를 위한 나노미터 크기의 자기터널접합 구조의 고밀도 플라즈마 식각
한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집
2005 .12
C4F8 가스를 이용한 식각 공정 플라즈마에서 첨가 가스(Ar, Kr)에 따른 플라즈마 특성 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
헬리콘 플라즈마의 전기적 특성
Applied Science and Convergence Technology
1996 .03
C4F8/Ar 플라즈마를 이용한 SiO2 원자층 식각에서 활성종 구성 비율에 따른 식각 특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
유도 결합형 플라즈마를 이용한 GaN 식각 특성에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1997 .02
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