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1. 서론
2. 결과 및 논의
3. 결론
4. 참고 문헌
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C₄F8 / H₂ 헬리콘 플라즈마를 이용한 산화막 식각시 형성된 잔류막 손상층이 후속 실리사이드 형성 및 전기적 특성에 미치는 효과
한국진공학회 학술발표회초록집
1998 .02
가스 주입구의 위치가 헬리콘 플라즈마 특성 및 산화막 식각에 미치는 영향
한국진공학회 학술발표회초록집
1997 .07
헬리콘 플라즈마의 전기적 특성
한국진공학회 학술발표회초록집
1996 .02
헬리콘 플라즈마의 연구 현황
한국진공학회 학술발표회초록집
2000 .02
반사계를 이용한 헬리콘 플라즈마 밀도측정
한국진공학회 학술발표회초록집
2012 .08
헬리콘 고밀도 플라즈마로부터 라디칼 빔의 추출 및 이를 이용한 실리콘의 건식식각
한국진공학회 학술발표회초록집
1998 .07
낮은 자기장하에서 헬리콘 플라즈마 밀도의 시간적 진동에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1999 .02
C₄F8 / H₂ 헬리콘 플라즈마를 이용한 고선택비 산화막 식각공정시 실리콘 표면의 오염 및 손상에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1997 .07
Lower Hybrid 주파수 부근에서 헬리콘 플라즈마의 주파수 특성
한국진공학회 학술발표회초록집
1996 .06
영구 자석을 이용한 다수 헬리콘 방전의 특성연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2010 .08
헬리콘 플라즈마의 모드변환 영역 근처에서 충돌에 의한 에너지 흡수에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2009 .02
유도 결합형 플라즈마를 이용한 GaN 식각 특성에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1997 .02
확장형 히든마코브모델을 이용한 산화막 플라즈마 식각공정의 식각종료점 검출방법
한국진공학회 학술발표회초록집
2010 .02
유도 결합 플라즈마를 이용한 6H - SiC 식각 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1998 .07
헬리콘 플라즈마를 이용한 고선택비 산화막 식각에 관한 연구
Applied Science and Convergence Technology
1998 .11
저진공 펄스 직류 전원 BCl3/SF6 플라즈마를 이용한 GaAs/Al0.2Ga0.8As 화합물 반도체의 선택적 식각 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2011 .08
ECR 플라즈마 식각장치의 고진공 시스템제작 및 반도체 식각특성연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1991 .07
ICP와 헬리콘 플라즈마를 이용한 대면적 고밀도 플라즈마 소스 개발
한국진공학회 학술발표회초록집
2011 .08
유도결합형 산소 플라즈마를 이용한 다공성 폴리머 필름의 식각 특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
자성 메모리를 위한 나노미터 크기의 자기터널접합 구조의 고밀도 플라즈마 식각
한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집
2005 .12
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