아르곤 플라즈마로 처리한 n - GaAs의 표면특성에 관한 Photoreflectance 연구

이동율; 김인수; 김동렬; 김근형; 배인호; 김규호; 한병국

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자료유형: 학술저널

저자정보: 이동율 김인수 김동렬 김근형 배인호 김규호 한병국

저널정보: 한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology 한국진공학회지 제6권 제4호

발행연도: 1997.11

수록면: 359 - 363 (5page)

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Power를 40 W로 고정하고 시간을 5~120초간 변화시켜 아르콘 플라즈마로 처리시킨 n-GaAs(100)의 특성을 photoreflectance(PR) 측정으로 조사하였다. 아르곤 플라즈마 처리시간을 증가시킴에 따라 E。 피크의 세기는 처리시간이 5초일 때 최소로 관측되었으며, 이때 표면전기장(E_S), 순수 캐리어농도(N_D-N_A) 및 표면상태 밀도 (Q_(SS))는 각각 1.05×10^5 V/㎝, 1.31×10^(17) ㎝-³ 및 1.64×10^(-7) C/㎡로 이 값들은 bulk 시료에 비해 약 57.1, 81.4 및 56.9% 감소하였다. 반면에 5초일 때 compensation center 농도(N_A)는 5.57×10^(17) ㎝-³로 최대였다. 그리고 아르곤 플라즈마 처리시 유발된 결함들의 침투깊이는 표면에서 약 450 Å 정도였다.

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