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논문 기본 정보

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저널정보
한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology 한국진공학회지 제3권 제3호
발행연도
1994.9
수록면
331 - 336 (6page)

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Electron cyclotron resonance plasma chemical vapor deposition(ECRPCVD) 장치에서 공정변수에 따른 수소 플라즈마 특성을 조사하였다. 균일한 플라즈마 밀도를 얻기 위하여 전자공명층이기판과 평행하게 형성되도록 정자장 코일을 설계하였으며, 기판근처에 부가적으로 형성된 multicusp field에 의해서 기판 근처에서의 플라즈마 균일도를 개선시킬 수 있었다. 또한, 절연된 공진실과 기판에의 독립적인 DC bias에 의해서 기판으로 입사하는 하전입자들의 에너지와 유량을 조잘할 수 있었다. 이러한 플라즈마 특성을 갖는 ECRPCVD장치를 다양한 특성을 갖는 박막 합성에 응용할 수 있으리라 사료된다

목차

요약

Abstract

1. 서론

2. 실험결과

3. 결과 및 토론

4. 결론

참고문헌

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황석희 ,  태흥식 ,  황기웅 전자공학회논문지-A 1994 .04

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