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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 저널정보
- 한국진공학회(ASCT) Journal of Korean Vacuum Science & Technology Journal of Korean Vacuum Science & Technology Vol.6 No.1
- 발행연도
- 2002.6
- 수록면
- 5 - 7 (3page)
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For quantitative N depth profiling, N profiles were measured in a~3 ㎚ Si oxynitride by low energy O₂^+ sputtering and the result was calibrated with MEIS analysis ... 전체 초록 보기
목차
Abstract
1. Introduction
2. Experiment
3. Results
4. Conclusion
Acknowledgement
References
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