Plasma nitridation of atomic layer deposition-Al2O3 by NH3 in PECVD

Ham cho ,  om Cha ,  Young Joon Cho 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .02

Synthesis and Characterization of ThMn₁₂-type by nitridation reaction

Kang-Hyuk Lee ,  Sang-Im Yoo

한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집

2019 .11

Growth and Nitridation of Fe thin films on (0001) Al₂O₃ substrates

Hyeonjun Kong ,  Eunyoung Ahn ,  Yuon-Kyoung Baek 외 6명

한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집

2016 .11

Magnetic Sector SIMS을 이용한 Ultra Thin Oxynitride Film 분석

홍태은 ,  이종필 ,  고중규 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2000 .07

XPS Depth profiling of Ultra Thin Oxynitride Film

홍태은 ,  연태원 ,  김종훈 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2004 .08

Effect of Nitrogen-Hydrogen Mixed Plasma on Nitridation Process of Iron Nanoparticles

Tomohito Maki ,  Hi ,  oaki Ku 외 8명

한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집

2010 .12

Structure control of Fe Particles for the Efficient Nitridation

김수경 ,  이정구 ,  권세훈 외 1명

한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집

2016 .11

Nitrogen Depth Profiles in Ultrathin Oxynitride Films

H.K. Shon ,  H.J. Kang ,  H.S. Chang 외 2명

Journal of Korean Vacuum Science & Technology

2002 .06

Effect of the flow rate of nitrogen sputter gas on the properties of thin zirconium oxynitride films

박주연 ,  조준모 ,  강용철

한국진공학회 학술발표회초록집

2010 .02

Structural evolution and highly active reaction in direct plasma process on 4H-SiC

김대경 ,  조만호

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .02

Intial oxynitridation and nitridation of silicon surfaces by NO and NH₃decomposition

염한웅 ,  김정원 ,  김유권

한국진공학회 학술발표회초록집

2003 .08

Characterization of tantalum oxynitride films synthesized by reactive magnetron sputtering

Nikola RADIC ,  Ma ,  ko JERCINOVIC 외 9명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Quantitative depth profile of Nitrogen in ultrathin Oxynitride film with SIMS and MEIS

손현경 ,  강희재 ,  홍태은 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2002 .02

Improvement of Thin Film Characteristics by Controlling Nitrogen Contents Ratio of Silicon Oxynitride Gate Insulator Layer

김태용 ,  이준신

한국진공학회 학술발표회초록집

2014 .08

Structural Evolution and Electrical Properties of Highly Active Plasma Process on 4H-SiC

Dae-Kyoung Kim ,  Mann-Ho Cho

Applied Science and Convergence Technology

2017 .09

NO 와 NH₃ rapid thermal nitridation 공정에 따른 SiON 막질 분석

이우정 ,  이정한 ,  이연승 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2007 .08

Effects of an ultrathin silicon nitride passivation layer on the interfacial properties of direct plasma nitridaiton on 4H-SiC(0001)

김대경 ,  강유선 ,  최윤호 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2014 .08

Effect of plasma treatments on the initial stage of micro - crystalline silicon thin film

장상철 ,  남창우 ,  홍진표 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

1999 .07

Silicon oxy-nitridation using the hyperthermal neutral beam (HNB)

김종식 ,  김대철 ,  손혁준 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2009 .02

방사광 X-선 반사도론 이용한 oxynitride 나노박막의 두께와 계면 거칠기 측정

장창환 ,  주만길 ,  신광수 외 2명

한국결정학회 학술연구발표회

2002 .01