지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2003.1
- 수록면
- 0 - 0 (1page)
이용수
초록· 키워드
오류제보하기
The channel of a superconducting flux flow transistor has been fabricated with plasma etching method using a inductively coupled plasma etching. The ICP conditions then were ICP power of 450 W, rf chuck power of 150 W, the pressure in chamber of 5 mTorr, and Ar : Cl2=1:1. Especially, over the 5 mTorr, the superconducting thin films were not etched. The channel etched by plasma gas showed the critical temperature over 85 K. The critical current of the SFFT was altered by varying the external applied current. As the external applied current increased from 0 to 12 mA, the critical current decreased from 28 to 22 mA. Then the obtained trans-resistance value was smaller than 0.1Ω at a bias current of 40 mA.
목차
등록된 정보가 없습니다.
참고문헌 (0)
참고문헌 신청함께 읽어보면 좋을 논문
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
-
ICP 식각 시스템에 의한 초전도 스트립 라인의 임계 특성 분석
전기전자재료학회논문지
2004 .01
-
ICP 장치를 이용한 초전도 자속 흐름 트랜지스터의 링크 제작
전기학회논문지 C
2001 .10
-
Optimized Process Analysis of SiO₂ etch using CFD Simulation
대한전자공학회 학술대회
2017 .01
-
The Dry Etching Properties on TiN Thin Film Using an N_2/BCl_3/Ar Inductively Coupled Plasma
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2011 .01
-
E-ICP에 의한 산화막 식각특성
대한전자공학회 학술대회
2000 .06
-
The study of silicon etching using the high density hollow cathode plasma system
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2003 .01
-
Platinum Etching in an Inductively Coupled Cl2 Plasma
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
-
Dry Etching Characteristics of Zinc Oxide Thin Films in Cl_2-Based Plasma
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2011 .01
-
범용성 유도결합 플라즈마 식각장비를 이용한 깊은 실리콘 식각
전기전자재료학회논문지
2004 .01
-
Dry Etching of Al2O3 Thin Films in O2/BCl3/Ar Inductively Coupled Plasma
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2010 .01
-
Plasma etching behavior of RE-Si-Al-O glass (RE: Y, La, Gd)
한국재료학회 학술발표대회
2010 .01
-
Inductively Coupled Plasma를 이용한 SnO 박막의 식각 특성 연구
한국표면공학회지
2016 .02
-
The Use of Inductively Coupled CF4/Ar Plasma to Improve the Etch Rate of ZrO2 Thin Films
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2013 .01
-
CH₄ 플라즈마에 따른 TiN 박막 표면의 식각특성 연구
한국표면공학회지
2008 .10
-
유도결합 플라즈마를 이용한 PST 박막의 식각 특성
전기전자재료학회논문지
2003 .01
-
Etch Properties of HfO2 Thin Films using CH4/Ar Inductively Coupled Plasma
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2007 .01
-
나노 반도체 소자를 위한 펄스 플라즈마 식각 기술
한국표면공학회지
2015 .12
-
Dry Etching Characteristics of ZnO Thin Films for the Optoelectronic Device by Using Inductively Coupled Plasma
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2012 .01
-
Magnetized inductively coupled plasma etching of GaN in Cl₂/BCl₃plasmas
한국표면공학회 학술발표회 초록집
1999 .10
-
유도 결합 플라즈마를 이용한 TiN 박막의 식각 특성
한국표면공학회지
2008 .06
이 논문의 저자 정보
최근 본 자료
댓글(0)
0