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한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 전기전자재료학회논문지 제22권 제11호
발행연도
2009.1
수록면
969 - 973 (5page)

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In this study, the electrical and optical properties of (SiO2)x(ZnO)100-x (SZO) films prepared on the corning 7059 glass substrates by using rf-magnetron sputtering method are investigated. The deposition rate becomes maximum near 3 wt.% and gradually decreases when the SiO2 content further increases. The growth rates of the SZO film with SiO2 content of 3 wt.% is 4 Å/s. We found that the average transmittance of all films is over 80% in the wavelength range above 500 nm. The optical band gap were decreased from 3.52 to 3.33 eV as an increase the deposition thickness. X-ray diffraction patterns showed that the film with a relatively low SiO2 content (< 4 wt.%) is amorphous. SZO film with the SiO2 contents of 2 wt.% showed the resistivity of about 3.810-3 Ω·cm. The sheet resistance decreases with increasing the heat treatment temperature.

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