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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2009.1
- 수록면
- 772 - 775 (4page)
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Indium tin oxide(ITO) thin film was deposited at room temperature on polycarbonate(PC) substrate by in-line sputter system. ITO sputtering process was carried out at a various pressure for the reduction of ion damage on PC substrate and the electrical and the optical properties of deposited ITO films were obtained and analyzed. From the experimental results, the sheet resistances of as-deposited ITO films varied with a different pressure and the optical transmittances at visible wavelength were maintained above 85%. The results are considered to be related to the pressure of oxygen atoms as a reaction gas.
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A. Kulkarni / 1998 / Electrical,optical,structura properties of indium-tin-oxide thin films deposited on PET substrates by rf sputtering / J. Vac. Sci. Technol. A16 : 1636 ~
N. Danson / 1998 / Techniques for the sputtering of optimum indium-tin-oxide films on to room-temperature substrates / Surf. Coatings Technol. 99 : 214 ~
P. Lippens / 1998 / / Thin Solid Films 317 : 405 ~
T. Minami / 1995 / Physics of very thin ITO conducting films with high transparency prepared by dc magnetron sputtering / Thin Solid Films 270 : 37 ~
T. karasawa / 1997 / Electrical and optical properties of ITO thin films deposited on unheated substrates by dc reactive sputtering / Thin Solid Films 223 : 135 ~
N. Danson / 1998 / Techniques for the sputtering of optimum indium-tin-oxide films on to room-temperature substrates / Surf. Coatings Technol. 99 : 214 ~
P. Lippens / 1998 / / Thin Solid Films 317 : 405 ~
T. Minami / 1995 / Physics of very thin ITO conducting films with high transparency prepared by dc magnetron sputtering / Thin Solid Films 270 : 37 ~
T. karasawa / 1997 / Electrical and optical properties of ITO thin films deposited on unheated substrates by dc reactive sputtering / Thin Solid Films 223 : 135 ~
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