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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2010.1
- 수록면
- 35 - 40 (6page)
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CCS방법이 적용된 off-axis RF 마그네트론 스퍼터를 이용하여 증착된 Ta2O5-SiO2의 유전체 박막에 관하여 연구를 하였다. 1500 μm 의 간격으로 비유전율 및 유전손실을 측정하여 Ta2O5-SiO2에 조성의 변화에 따른 유전특성의 변화를 나타내었다. 1 MHz 에서 높은 유전상수(k ~19.5) 와 낮은 유전손실(tanδ <0.05)을 보이는 영역들을 찾았는데, 이는증착된 기판(75×25 mm2 sized Pt/Ti/SiO2/Si(100))에서 SiO2 타겟 영역으로부터 각각 16 mm, 22 mm 떨어진 영역에서 찾을 수 있었다.
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참고문헌 (22)
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/ 2005 / IEEE Standard Testability Method for Embedded Core-based Integrated Circuits. in IEEE Std 1500-2005 / IEEE : 1 ~ 117
A Paskaleva1 / 2007 / Impact of Si Substrate Nitridation on Electrical Characteristics of Ta2O5 Stack Capacitors / J. Phys. D: Appl. Phys. 40 (21) : 6709 ~
A. Yankova / 1987 / Effects of Thermal Nitridation on the Trapping Characteristics of SiO2 Films / Solid State Electron. 30 (9) : 939 ~
C. Corbella / 2003 / Influence of the Porosity of RF Sputtered Ta2O5 Thin Films on Their Optical Properties for Electrochromic Applications / Solid State Ionics 165 (1) : 15
C. D. Dimitrakopoulos / 2002 / Organic Thin Film Transistors for Large Area Electronics / Adv. Mater. 14 (2) : 99 ~
A Paskaleva1 / 2007 / Impact of Si Substrate Nitridation on Electrical Characteristics of Ta2O5 Stack Capacitors / J. Phys. D: Appl. Phys. 40 (21) : 6709 ~
A. Yankova / 1987 / Effects of Thermal Nitridation on the Trapping Characteristics of SiO2 Films / Solid State Electron. 30 (9) : 939 ~
C. Corbella / 2003 / Influence of the Porosity of RF Sputtered Ta2O5 Thin Films on Their Optical Properties for Electrochromic Applications / Solid State Ionics 165 (1) : 15
C. D. Dimitrakopoulos / 2002 / Organic Thin Film Transistors for Large Area Electronics / Adv. Mater. 14 (2) : 99 ~
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