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저널정보
한국결정성장학회 한국결정성장학회지 한국결정성장학회지 제17권 제4호
발행연도
2007.1
수록면
145 - 150 (6page)

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다층간섭필터 제작을 위한 SiO2 & TiO2 박막을 electron-beam을 이용하여 제작하였다. 이온빔 보조증착 장비를 이용한 경우, 아르곤 가스와 산소 가스의 비율에 따라 양극전류를 변화시키며 증착하였고, 전자빔만을 사용한 경우에는 100~250oC까지 50oC 간격으로 온도를 조정하여 증착하였다. SiO2 박막의 경우 표면거칠기는 200oC와 양극전류 0.2 A에서 가장 낮은 값을 보였으며, 굴절률은 이온빔 보조 장치를 사용한 박막이 전자빔만을 사용하여 증착한 박막보다 전체적으로 0.1 정도 낮았다. TiO2의 경우 표면거칠기는 상온과 양극전류 0.2 A에서 가장 낮으며, 굴절률은 이온빔 보조 증착장치를 사용한 박막이 전자빔만으로 증착한 경우보다 전체적으로 낮은 값을 나타내었다.
#e-Beam #Ion beam assisted deposition

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참고문헌 (5)

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/ 1984 / “Microstructure of vapor-deposited optical coatings” : 3806 ~ google schola / 1992 / “Optical properties of ion assisted deposited zirconia thin films” : 3451 ~ google schola / 1993 / Thin film and their applications in optoelectronics : 150 ~ google schola / 2001 / Optical properties and mechanical stress in SiO2/Nb2O5 multilayer 389 : 278 ~ google schola / 2001 / Thin film optics (Dasung, 2001) : 151 ~ 272 google schola

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