Effects of pulsed inductively coupled Cl₂/Ar plasma for the etching of Si nanostructure

신예지 ,  김교운 ,  김희주 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .02

Si Fin etching using Cl₂/Ar Sync, Asynchronized Pulsed Inductively Coupled Plasmas

김희주 ,  김교운 ,  홍종우 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .08

펄스 플라즈마를 이용한 나노구조체의 식각 특성 향상을 위한 연구

홍종우 ,  김정완 ,  김희주 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .08

Ar/C₄F₆/O₂Pulsedtriplefrequency의 식각 메커니즘 분석

김수강 ,  양경채 ,  신예지 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

Oxide 및 Nitride 고선택비 식각 공정에서의 CF4(CHF3)/O2/Ar inductively coupled pulsed plasmas

김희주 ,  신예지 ,  김교운 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .02

Etching of Ta₂O₅ thin films by inductively coupled plasma

Gwan-Ha Kim ,  KyuSung Heo

한국분석과학회 학술대회

2024 .11

Development of methodology for Individual control of ion and radical in dual freqeuncy(13.56 ㎒ + 400 ㎑) pulsed Ar/CF₄/O₂ plasma

정원녕 ,  이장재 ,  이영석 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2021 .02

Ar/C_xF_2xO(X=3,6) 혼합가스를 이용한 친환경 SiO₂ 식각 연구

성익찬 ,  탁현우 ,  성다인 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2019 .08

C₃F₆O 가스를 이용한 SiO₂에 대한 식각 특성 분석

김선웅 ,  양경채 ,  이호석 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .08

식각된 LED의 식각 깊이와 식각 각도가 광 추출 효율에 미치는 영향

권기영 ,  기장근

새물리

2020 .10

Applications of fluid based plasma simulation : dry etch

주정훈

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

Plasma and pulsed power application to agriculture

Koichi TAKAKI

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Characteristics of SiO₂ Etching in a C4F8/Ar/O₂ pulse modulation capacitively coupled plasma

조철희 ,  김시준 ,  이장재 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

다양한 etch gas를 이용한 자성 박막의 식각특성 분석

이호석 ,  양경채 ,  박성우 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .02

Silicon oxide etching studies in inductively coupled fluorocarbon plasmas

Won-Seok Chang ,  Deuk-Chul Kwon ,  Mi-Young Song 외 7명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .02

Brief Review of Atomic Layer Etching Based on Radiofrequency-Biased Ar/C₄F₆-Mixture-Based Inductively Coupled Plasma Characteristics

Min Young Yoon ,  Hee Jung Yeom ,  Jong-Ryul Jeong 외 2명

Applied Science and Convergence Technology

2023 .03

MoS2 layer etching using CF4 plasma and H2S plasma treatment

양경채 ,  박성우 ,  김경남 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .02

Pulsed Inductively Coupled Plasma Discharge Simulation for Semiconductor Processing in 2D Axisymmetric Structure

Yejin Shon ,  So ,  a Lee 외 3명

Applied Science and Convergence Technology

2020 .11

원자층 식각기술

염근영

한국진공학회 학술발표회초록집

2015 .02

Study on the Etching properties by using Inductively Coupled CF₄/C₄F8/O₂ & CF₄/CBr₂F₂/O₂ plasmas

Yunho Nam ,  Junmyung Lee ,  Jongchan Lee 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2019 .08