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학술저널
저자정보
Min Yu Yin (Gachon University) Sang Jik Kwon (Gachon University) Eou-Sik Cho (Gachon University)
저널정보
대한전자공학회 JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE Journal of Semiconductor Technology and Science Vol.18 No.2
발행연도
2018.4
수록면
153 - 159 (7page)
DOI
10.5573/JSTS.2018.18.2.153

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For the realization of well-patterned twodimensional transition metal dichalcogenide (TMDC) films, molybdenum disulfide (MoS2) films were formed on sapphire substrate by radio-frequency (RF) sputtering with a shadow mask followed by rapid thermal annealing (RTA). The films were deposited using various sputtering power and annealed at different temperatures of 600 to 800℃. Raman spectroscopy and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) indicate more noticeable peaks when higher RF power and annealing temperature are used. However, analyses with a scanning electron microscope (SEM) and atomic force microscope (AFM) show that the MoS2 films sputtered at lower RF sputtering power have a better surface as a result of the different coefficients of thermal expansion (CTEs). The high mobility and carrier density were also investigated for all the MoS2 films.

목차

Abstract
I. INTRODUCTION
II. EXPERIMENTAL DETAILS
III. RESULTS AND DISCUSSION
IV. CONCLUSIONS
REFERENCES

참고문헌 (15)

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