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논문 기본 정보

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학술저널
저자정보
김영곤 (조선이공대학교 전자과) 박용섭 (조선이공대학교)
저널정보
한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 전기전자재료학회논문지 제30권 제1호
발행연도
2017.1
수록면
23 - 26 (4page)
DOI
http://dx.doi.org/10.4313/JKEM.2017.30.1.23

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비대칭 마그네트론 스퍼터링법으로 Mo 타겟 전력 밀도에 따라 제작한 Mo 도핑 탄소(C:Mo) 박막의 표면, 구조, 전기적 특성등을 고찰하였다. 비대칭 스퍼터링 장치로 증착한 C:Mo 박막은 균일하고, 부드러운 표면을 나타내었다. 그러나 Mo 타겟 전력 밀도 증가에 따라 Rms 표면거칠기 값은 증가하였다. 또한 전기적 특성으로 박막의 비저항 값은 타겟 전력 밀도 증가에 따라 감소하였다. 이러한 특성을 바탕으로 게이트 전극으로 C:Mo 박막을 적용한 OTFT 소자의 전기적 특성에서 μ와 VT의, Ion/Ioff 값은 각각 0.16 cm2/V·s, -6.0 V, 7.7×104 값을 나타내었다.

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