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한국산학기술학회 한국산학기술학회 논문지 한국산학기술학회논문지 제6권 제1호
발행연도
2005.2
수록면
78 - 82 (5page)

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디스플레이 세정의 개념은 기존의 반도체 세정인 RCA세정을 근간으로 하고 있으며, 대연적화와 환경친화적인 관점으로 발전하여 왔다. 본 연구에서는 프베이 도표에 근거하여 전리수를 이용하여 입자를 제거할 수 있음을 예측하고 이를 확인 하였다. 이 때 연구 대상으로 MgO 분말을 사용하였다. 사용된 전리수는 산화전위가 800 ㎷ 이상이고 pH가 3.1으로 산화장 이 강하였다. 전리수에 용해되는 MgO 분말의 무게를 pH에 조사하였으며, 250 ml의 전리수에 100-500 microgram 범위로 용해됨을 알 수 있었다. 이는 lE18 ea/㎤ 정도의 용해 물질을 내포하고 있음을 의미하며, 따라서 lEIS ea/㎤e 정도 수준의 불순물을 다루는 디스플레이 세정에 적용할 수 있음올 알 수 있었다. 특기할 것은 전리수는 반도체의 기판언 실리콘 웨이퍼 의 자연산화막을 식각하여 표면거칠기를 증가시킴을 처음으로 관찰하였다.
#display #Electrolyzed water #semiconductor #surface roughness #cleaning #electrolyzed anode

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