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Active ion doping technique on HfO₂ : based Atomic switch by inserting Cu layers
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
Characteristic analysis of HfO2 thin films deposited at low-temperature using direct plasma-enhanced atomic layer deposition
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
Characteristics of low-temperature at 80°C HfO2 deposited by ALD (Atomic Layer Deposition) and electrical properties of NMOS capacitor
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Precise control of electronic properties of graphene using n-doping method via atomic layer deposition
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
2D phases of CO ON CU(111) on the atomic scale
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Influence of O₂ Annealing on Electrical Characteristics of Atomic Layer Deposited HfO₂ thin Films on Si Substrate
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
Effect of Post Deposition Annealing in N₂ Ambient on Electrical Properties of Atomic Layer Deposited HfO₂ Films on Si
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
High-performance type-converted WSe₂/h-BN photodetector enhanced by triphenylphosphine (PPh3)-based n-type doping
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
The Effects of Thermal Decomposition of Tetrakis-ethylmethylaminohafnium (TEMAHf) Precursors on HfO₂ Film Growth using Atomic Layer Deposition
Applied Science and Convergence Technology
2016 .05
H₂O₂ effects of HfO₂ dielectric layers
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
Effects of N₂ Anneal on Electrical Properties of HfO₂ Film on Si Substrate
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Influence of O₂ Anneal on the Electrical Properties of HfO₂ thin Film on Si Substrate
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Cation redistribution of piezoelectric ferromagnetic Ga0.6Fe1.4O3 (010) films by Co-doping
한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집
2016 .11
용액 공정을 통한 HfO2/ZrO2 구조 차이에 따른 Dielectric layer의 특성 변화 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
Electrical Characteristics in Field-Cycling of Zr:HfO₂ and Si:HfO₂ Ferroelectric Capacitors by First-order reversal curve diagram
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Damage - Free Layer Control of MoS2 Using Atomic Layer Etching
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
A study on the characteristics and color coordinates of phosphorescence organic light-emitting diodes by inserting the non-doping region in emission layer
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
Analysis on interface trap density of MOS capacitor with Al-doped HfO₂ insulation layer
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
Electrical Characteristics of Multi-Layered Al₂O₃/HfO₂/Al₂O₃ Gate Dielectric Films
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
Atomic Layer Deposited Metal Thin Films on T-shirts
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
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