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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
신홍식 (Korea National University of Transportation)
저널정보
한국생산제조학회 한국생산제조학회지 한국생산제조시스템학회지 Vol.25 No.1
발행연도
2016.2
수록면
36 - 41 (6page)

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A method is proposed for the improvement of deposition reproducibility in the selective electrodeposition process using laser masking and DC voltage. Selective electrodeposition using laser masking and DC voltage can achieve a deposited layer with micro patterns. However, selective electrodeposition using laser masking and DC voltage have a critical problem: the lack of reproducibility in selective deposition. The reproducibility of selective electrodeposition can be improved by a new process that consists of laser masking, two-step electrodeposition, laser scribing, and ultrasonic cleaning. The experiments in this study show that the reproducibility of selective deposition can be successfully improved by the combination of two-step electrodeposition and laser scribing.
#Laser masking #Laser scribing #Electrodeposition characteristics #Copper layer #DC voltage

목차

ABSTRACT
1. 서론
2. 레이저 마스킹을 이용한 선택적 전해도금
3. 선택적 전해도금 재현성 개선을 위한 레이저 공정
4. 전해도금 조건에 따른 도금 특성
5. 결론
References

참고문헌 (10)

참고문헌 신청
Madou, M. J., 2002, Fundamental of Microfabrication, CRC press LLC, Boca Raton. google schola Paunovic, M., Schlesinger, M., 2006, Fundamentals of Electrochemical Deposition, John Wiley & Sons, NJ. google schola Schlesinger, M., Paunovic, M., 2010, Modern Electroplating, Wiley, NJ. google schola Romankiw, L. T., 1997, A Path: from Electroplating through Lithographic Masks in Electronics to LIGA in MEMS, Microsyst. Technol., 42:20-22 2985-3005. google schola Wee, L. M., Li, L., 2005, Multiple-layer Laser Direct Writing Metal Deposition in Electrolyte Solution, Appl. Surf. Sci., 247:1-4 285-293. google schola

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