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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2015.2
- 수록면
- 75 - 80 (6page)
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This paper proposes a selective electrodeposition process that uses laser masking and a DC voltage. Selective electrodeposition using laser masking and a DC voltage is more efficient than that using laser masking and a pulse voltage. In other words, electrodeposition with a DC voltage allows for precise selective deposition without the limitation of the deposition region. Also, a selective electrodeposition method that uses laser masking and DC voltage can reduce the electrodeposition time. The characteristics of a copper layer deposited by laser masking and DC voltage were examined under various conditions. A selective copper layer with various micro patterns of2 μm thickness was successfully fabricated.
목차
ABSTRACT
1. 서론
2. 레이저 마스킹과 직류전원을 이용한 전해도금
3. 선택적 전해도금
4. 전해도금 조건에 따른 도금 특성 및 결과
5. 결론
References
참고문헌 (8)
참고문헌 신청
1. [단행본] - Madou, M. J. / 2002 / Fundamental of Microfabrication / CRC Press LLC
2. [단행본] - Paunovic, M. / 2006 / Fundamentals of Electrochemical Deposition / John Wiley & Sons
3. [단행본] - Schlesinger, M. / 2010 / Modern Electroplating / Wiley
4. [학술지(정기간행물)] - 백병만 / 2012 / 3차원 레이저 다이렉트 패터닝 시스템 개발 / 한국생산제조시스템학회지 21 (1) : 116 ~ 122
5. [학술지(정기간행물)] - Romankiw, L. T. / 1997 / A path: from Electroplating through Lithographic Masks in Electronics to LIGA in MEMS / Microsyst. Technol. 42 (20-22) : 2985 ~ 3005
2. [단행본] - Paunovic, M. / 2006 / Fundamentals of Electrochemical Deposition / John Wiley & Sons
3. [단행본] - Schlesinger, M. / 2010 / Modern Electroplating / Wiley
4. [학술지(정기간행물)] - 백병만 / 2012 / 3차원 레이저 다이렉트 패터닝 시스템 개발 / 한국생산제조시스템학회지 21 (1) : 116 ~ 122
5. [학술지(정기간행물)] - Romankiw, L. T. / 1997 / A path: from Electroplating through Lithographic Masks in Electronics to LIGA in MEMS / Microsyst. Technol. 42 (20-22) : 2985 ~ 3005
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